特許
J-GLOBAL ID：201403067051307995
集束イオンビーム装置、それを用いた試料の加工方法、及び集束イオンビーム加工用コンピュータプログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
赤尾 謙一郎
, 下田 昭
, 栗原 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-048446
公開番号（公開出願番号）：特開2014-209450
出願日： 2014年03月12日
公開日（公表日）： 2014年11月06日
要約：
【課題】試料ステージを移動させて試料画像の表示範囲を超える加工領域を加工する場合であっても、加工位置ずれを補正することができる集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】集束イオンビーム20Aを試料2に照射して生じる二次荷電粒子に基づき、試料に形成された位置検出マークM1、M2、Mdを含む試料画像を生成する画像生成手段90Aと、試料画像を表示する表示手段91と、試料ステージ60を移動させ、表示手段の表示範囲を超える加工領域2Wに集束イオンビームを照射して加工する場合に、試料ステージの移動前の試料画像に含まれる位置検出マークのうち、移動後の試料画像に含まれる位置検出マークを基準マークM2、Mdとしてその位置を検出し、試料ステージの移動後の試料画像において検出した基準マークに基づいて集束イオンビームの照射位置を制御する制御手段90と、を有する集束イオンビーム装置100である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
加工対象の試料を載置すると共に該試料の位置を移動させる移動機構を有する試料ステージと、
集束イオンビームを前記試料に照射する集束イオンビーム照射機構と、
前記集束イオンビームを前記試料に照射して生じる二次荷電粒子を検出する検出器と、
前記検出器の検出データに基づき、前記試料に形成された位置検出マークを含む試料画像を生成する画像生成手段と、
前記試料画像を表示する表示手段と、
前記試料ステージを移動させ、前記表示手段の表示範囲を超える加工領域に前記集束イオンビームを照射して加工する場合に、前記試料ステージの移動前の前記試料画像に含まれる前記位置検出マークのうち、前記移動後の前記試料画像に含まれることとなるいずれかの位置検出マークを基準マークとしてその位置を検出し、前記試料ステージの移動後の前記試料画像において前記基準マークの位置を検出し、当該基準マークに基づいて前記集束イオンビームの照射位置を制御する制御手段と、を有する集束イオンビーム装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, H01J 37/305
, H01J 37/30
H01J37/317 D
, H01J37/305 A
, H01J37/30 A
5C034AB03
, 5C034BB04
, 5C034BB07
, 5C034BB09
, 5C034DD05
, 5C034DD06
, 5C034DD09
