特許
J-GLOBAL ID:201403067142144738
紫外光発生用ターゲット、電子線励起紫外光源、及び紫外光発生用ターゲットの製造方法
発明者:
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 石田 悟
, 寺澤 正太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-233973
公開番号(公開出願番号):特開2014-086255
出願日: 2012年10月23日
公開日(公表日): 2014年05月12日
要約:
【課題】紫外光発生効率を高めることが可能な紫外光発生用ターゲット、電子線励起紫外光源、及び紫外光発生用ターゲットの製造方法を提供する。【解決手段】紫外光発生用ターゲット20は、紫外光UVを透過する基板21と、基板21上に設けられ、電子線EBを受けて紫外光UVを発生する発光層22とを備える。発光層22は、付活剤が添加されたLu及びSiを含有する酸化物多結晶から成る多結晶膜、若しくは付活剤が添加された希土類含有アルミニウムガーネット多結晶から成る多結晶膜を含む。【選択図】図2
請求項(抜粋):
紫外光を透過する基板と、
前記基板上に設けられ、電子線を受けて紫外光を発生する発光層と
を備え、
前記発光層が、付活剤が添加されたLu及びSiを含有する酸化物多結晶から成る多結晶膜を含むことを特徴とする、紫外光発生用ターゲット。
IPC (3件):
H01J 63/06
, C09K 11/79
, C09K 11/80
FI (3件):
H01J63/06
, C09K11/79
, C09K11/80
Fターム (9件):
4H001CA04
, 4H001XA08
, 4H001XA13
, 4H001XA39
, 4H001XA71
, 4H001YA21
, 4H001YA57
, 4H001YA59
, 5C039MM03
前のページに戻る