特許

J-GLOBAL ID：201403067351230552

中空シリカ粒子の製造方法

発明者： 細川 浩司 ,  小松 正樹
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-199931
公開番号（公開出願番号）：特開2014-055084
出願日： 2012年09月11日
公開日（公表日）： 2014年03月27日
要約：

【課題】本発明は、反応液中のシリカ源から換算されるシリカ濃度が高くても、中空シリカ粒子を安定して製造できる中空シリカ粒子の製造方法を提供する。【解決手段】 アルキルグリコシドおよびグリセリルエーテルの存在下で形成され、水系溶媒に分散された、炭素数10以上18以下の炭化水素化合物を含む乳化油滴の表面に、カチオン性界面活性剤の存在下でシリカを含む成分から構成されメソ細孔構造を有する外殻部を形成する工程と、前記外殻部と前記外殻部よりも内側に存在する前記乳化油滴とを含む複合シリカ粒子から前記乳化油滴を除去する工程と、を含む中空シリカ粒子の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

アルキルグリコシドおよびグリセリルエーテルの存在下で形成され、水系溶媒に分散された、炭素数10以上18以下の炭化水素化合物を含む乳化油滴の表面に、カチオン性界面活性剤の存在下でシリカを含む成分から構成されメソ細孔構造を有する外殻部を形成する工程と、 前記外殻部と前記外殻部よりも内側に存在する前記乳化油滴とを含む複合シリカ粒子から前記乳化油滴を除去する工程と、を含む中空シリカ粒子の製造方法。

IPC (2件)：

C01B 37/02 ,  C01B 33/18

FI (2件)：

C01B37/02 ,  C01B33/18

Fターム (27件)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB16 ,  4G072DD05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ33 ,  4G072JJ42 ,  4G072JJ47 ,  4G072LL06 ,  4G072MM01 ,  4G072MM22 ,  4G072TT01 ,  4G072TT08 ,  4G072UU15 ,  4G072UU17 ,  4G072UU30 ,  4G073BA63 ,  4G073CZ54 ,  4G073FB01 ,  4G073FC18 ,  4G073FD13 ,  4G073GA11 ,  4G073GA12 ,  4G073GA13 ,  4G073GB02 ,  4G073UA02