特許
J-GLOBAL ID：201403067403593101

基材および光学フィルム

発明者：
小林 忠弘

小林 忠弘 について

, 
古田 克宏

古田 克宏 について

, 
高原 秀起

高原 秀起 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-196908
公開番号（公開出願番号）：特開2014-052513
出願日： 2012年09月07日
公開日（公表日）： 2014年03月20日
要約：
【課題】高い密着性を備えた基材および光学フィルムを提供すること。【解決手段】窒素および酸素を含む雰囲気下で、プラズマで表面処理された基材であって、200mJ/cm2以下のエネルギーで表面処理された基材、該基材表面に、配向膜が設けられた積層体および該積層体の配向膜上に、光学異方性層が形成された光学フィルム。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
窒素および酸素を含む雰囲気下で、プラズマで表面処理された基材であって、200mJ/cm2以下のエネルギーで表面処理された基材。
IPC (5件)：
G02B 5/30 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/02 ,  B32B 7/02 ,  G02F 1/133
FI (7件)：
G02B5/30 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/02 ,  B32B7/02 103 ,  G02F1/1337 520 ,  G02F1/1335 510 ,  G02F1/13363
Fターム (79件)：
2H149AA01 ,  2H149AB16 ,  2H149CA02 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB03 ,  2H149DB13 ,  2H149EA12 ,  2H149EA16 ,  2H149EA26 ,  2H149EA28 ,  2H149FA02X ,  2H149FA02Z ,  2H149FA21Y ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FA95X ,  2H191FA95Z ,  2H191FB05 ,  2H191FC05 ,  2H191FC07 ,  2H191FC32 ,  2H191FC33 ,  2H191FC37 ,  2H191FD07 ,  2H191FD35 ,  2H191GA08 ,  2H191GA23 ,  2H191HA06 ,  2H191HA09 ,  2H191HA11 ,  2H191HA13 ,  2H191HA15 ,  2H191LA40 ,  2H191PA04 ,  2H191PA07 ,  2H191PA08 ,  2H191PA10 ,  2H191PA12 ,  2H191PA87 ,  2H290BA30 ,  2H290BD01 ,  2H290BE02 ,  2H290BF24 ,  2H290CA02 ,  2H290DA01 ,  2H290DA03 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC25 ,  3K107CC32 ,  3K107CC45 ,  3K107EE26 ,  3K107FF06 ,  3K107FF15 ,  4F100AJ06A ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AR00C ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EJ61A ,  4F100GB41 ,  4F100JA11C ,  4F100JA20B ,  4F100JB14B ,  4F100JK06B ,  4F100JL11 ,  4F100JM02B ,  4F100JN10 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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