特許

J-GLOBAL ID：201403067463685994

集束イオンビーム装置

発明者： 久保 雄大 ,  間所 祐一
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (3件)： 井上 学 ,  戸田 裕二 ,  岩崎 重美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-172479
公開番号（公開出願番号）：特開2014-032836
出願日： 2012年08月03日
公開日（公表日）： 2014年02月20日
要約：

【課題】低エミッションで動作させることでイオンビームの放射角を小さくすることにより、安定で長寿命の液体金属イオン源およびこれを搭載した集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】エミッタ101、引出電極408および加速電極401を有する液体金属イオン源において、前記エミッタ101を絶縁碍子402を介してピエゾアクチュエータ403とその駆動機構404で支持し、前記エミッタ101を引出電極408の極近傍に接近させるようにした。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

正の電位が印加されている液体金属イオン源と、該液体金属イオン源のエミッタ先端部に対向する位置に設けられ、イオンビームを引き出すために該エミッタよりも低い電位が与えられている引出電極を備えたイオン源において、該エミッタを該引出電極の極近傍に接近させるための駆動機構を備えたことを特徴とするイオン源。

IPC (6件)：

H01J 27/26 ,  H01J 37/08 ,  H01J 9/02 ,  H01J 9/14 ,  H01J 37/317 ,  H01J 37/09

FI (6件)：

H01J27/26 ,  H01J37/08 ,  H01J9/02 S ,  H01J9/14 Z ,  H01J37/317 D ,  H01J37/09 A

Fターム (5件)：

5C030DF04 ,  5C030DF08 ,  5C033BB01 ,  5C033BB09 ,  5C034DD01