特許

J-GLOBAL ID：201403068910826327

洗浄剤およびガラス基板の洗浄方法

発明者： 榎本 久男 ,  佐原 幸治 ,  金子 愛子 ,  石川 智章 ,  横山 哲史 ,  前柳 佳孝 ,  田中 明
出願人/特許権者： 株式会社パーカーコーポレーション ,  旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人サクラ国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012063360
公開番号（公開出願番号）：WO2012-161270
出願日： 2012年05月24日
公開日（公表日）： 2012年11月29日
要約：

酸化セリウム含有研磨剤で研磨されたガラス基板の平坦性を損なうことなく、表面に残留・付着した研磨砥粒を分散して除去する。 酸化セリウム含有研磨剤で研磨されたガラス基板を洗浄するための、(A)有機ホスホン酸と、(B)ポリカルボン酸塩と、(C)芳香族スルホン酸と、(D)アミン-アルキレンオキサイド付加物とを含む水系洗浄剤。ガラス基板の洗浄方法は、酸化セリウムを含有する研磨剤を用いてガラス基板を研磨する研磨工程と、当該研磨工程後の該ガラス基板を、前記洗浄剤により洗浄する洗浄工程を有する。

請求項（抜粋）：

酸化セリウム含有研磨剤で研磨されたガラス基板を洗浄するための洗浄剤であり、 (A)有機ホスホン酸と、(B)ポリカルボン酸塩と、(C)芳香族スルホン酸と、(D)アミン-アルキレンオキサイド付加物とを含む水系洗浄剤であることを特徴とする洗浄剤。

IPC (8件)：

C11D 3/36 ,  C11D 3/37 ,  C11D 1/722 ,  C11D 3/34 ,  C11D 17/08 ,  B08B 3/08 ,  B08B 1/04 ,  B08B 7/04

FI (8件)：

C11D3/36 ,  C11D3/37 ,  C11D1/722 ,  C11D3/34 ,  C11D17/08 ,  B08B3/08 Z ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 A

Fターム (20件)：

3B116AA02 ,  3B116AB16 ,  3B116BA08 ,  3B116BA13 ,  3B116BB24 ,  3B201AA02 ,  3B201AB16 ,  3B201BA08 ,  3B201BA13 ,  3B201BB24 ,  4H003AC13 ,  4H003AC23 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003DC01 ,  4H003EB22 ,  4H003EB24 ,  4H003EB30 ,  4H003ED02 ,  4H003FA21