特許
J-GLOBAL ID:201403069092091126

固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 鮫島 睦 ,  田村 恭生 ,  吉田 環
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2012059054
公開番号(公開出願番号):WO2012-144316
出願日: 2012年04月03日
公開日(公表日): 2012年10月26日
要約:
誘電体皮膜における欠陥発生を低減でき、かつ、使用する弁作用金属基体に対する制約が緩和された、新規な固体電解コンデンサの製造方法を提供する。多孔質の表面部分(1a)と非多孔質の本体部分(1b)とを有する弁作用金属基体(1)に溝(2)を設けて溝の底部を非多孔質として、弁作用金属基体(1)を溝(2)により複数の単位領域に仕切り、単位領域毎に多孔質の表面部分に陰極層形成部(A)を規定し、弁作用金属基体(1)の陰極層形成部およびそれらの間の溝の表面上に誘電体皮膜(3)を形成して、誘電体皮膜(3)の表面上に固体電解質層(5)および陰極引出層(7)を順次形成し、複数の固体電解コンデンサ素子(10)が溝(2)を介して一体的に作製されたシート(11)を得、シート(11)を溝(2)にて切断し、弁作用金属基体(1)の陰極層形成部の周囲に位置する切断面に誘電体皮膜を形成する。
請求項(抜粋):
(a)多孔質の表面部分と非多孔質の本体部分とを有する弁作用金属基体の両主面に溝を設けて溝の底部を非多孔質とし、弁作用金属基体の両主面を溝により複数の単位領域に仕切り、単位領域毎に多孔質の表面部分に陰極層形成部を規定する工程、 (b)弁作用金属基体の陰極層形成部および陰極層形成部間の溝の表面上に誘電体皮膜を形成する工程、 (c)弁作用金属基体の陰極層形成部に形成された誘電体皮膜の表面上に固体電解質層および陰極引出層を順次形成し、これにより、複数の単位領域に対応する複数の固体電解コンデンサ素子が溝を介して一体的に作製されたシートを得る工程、 (d)前記シートを弁作用金属基体の溝にて切断する工程、および (e)弁作用金属基体の陰極層形成部の周囲に位置する切断面に誘電体皮膜を形成する工程 を含む、固体電解コンデンサの製造方法。
IPC (2件):
H01G 9/04 ,  H01G 9/00
FI (2件):
H01G9/05 L ,  H01G9/24 C

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