特許
J-GLOBAL ID：201403069265365553
自動分析装置及び自動分析方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
平木 祐輔
, 関谷 三男
, 渡辺 敏章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-161846
公開番号（公開出願番号）：特開2014-021008
出願日： 2012年07月20日
公開日（公表日）： 2014年02月03日
要約：
【課題】散乱光測定法による定量結果に対する異物反応の影響の有無を判定可能とする。【解決手段】自動分析装置として、光を反応液に照射する光源と、反応液から発生した散乱光をそれぞれ異なる受光角度で受光する複数の受光器と、いずれか一つの受光器において測定された反応過程データを処理し、反応液内の物質濃度を定量する第1のデータ処理部と、複数の受光器で測定された複数の反応過程データについてそれぞれ算出された複数の演算値の比に基づいて、物質濃度の定量が正常に行われたものか否かを判定する第2のデータ処理部とを有するものを提案する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光を反応液に照射する光源と、
前記反応液から発生した散乱光をそれぞれ異なる受光角度で受光する複数の受光器と、
いずれか一つの前記受光器において測定された反応過程データを処理し、反応液内の物質濃度を定量する第1のデータ処理部と、
複数の前記受光器で測定された複数の反応過程データについてそれぞれ算出された複数の演算値の比に基づいて、物質濃度の定量が正常に行われたものか否かを判定する第2のデータ処理部と
を有する自動分析装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (23件)：
2G054AA03
, 2G054AA07
, 2G054BB13
, 2G054CA23
, 2G054CE01
, 2G054EA04
, 2G054EA05
, 2G054EA09
, 2G054EB01
, 2G054EB02
, 2G054EB03
, 2G054EB14
, 2G054FA06
, 2G054FA12
, 2G054FA33
, 2G054FA36
, 2G054GA03
, 2G054GA05
, 2G054JA01
, 2G054JA02
, 2G054JA04
, 2G054JA06
, 2G054JA11
出願人引用 (3件)
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自動分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2010-039800
出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
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特開平4-250342
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自動分析装置および自動分析方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2010-142259
出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
審査官引用 (3件)
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自動分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2010-039800
出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
特開平4-250342
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自動分析装置および自動分析方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2010-142259
出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
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