特許
J-GLOBAL ID：201403072606628010
加熱処理方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
杉谷 勉
, 戸高 弘幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-037310
公開番号（公開出願番号）：特開2013-128144
特許番号：特許第5483647号
出願日： 2013年02月27日
公開日（公表日）： 2013年06月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 金属の微粒子が塗布された被処理物に対して加熱処理を行って、前記微粒子を焼結させる加熱処理方法であって、
加熱処理部の内部に前記被処理物を収容して、前記被処理物に対して前記加熱処理を行う加熱処理過程と、
その加熱処理過程の後で前記被処理物に対してプラズマ処理を行うプラズマ処理過程と、
前記被処理物を収容した状態で前記加熱処理部の内部を真空で前記被処理物を処理する真空処理過程とを備え、
その真空処理過程の後で前記プラズマ処理過程での前記プラズマ処理を行うとともに、
前記加熱処理過程は、大気圧で前記被処理物に対して前記加熱処理を行い、
前記真空処理過程は、前記大気圧での前記加熱処理過程の後で前記被処理物を収容した状態で前記加熱処理部の内部を減圧して前記真空にする真空化過程であることを特徴とする加熱処理方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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