特許
J-GLOBAL ID：201403073173247888
パターン形成方法及び装置、露光装置並びに表示用パネル製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 浩三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-218287
公開番号（公開出願番号）：特開2014-071349
出願日： 2012年09月28日
公開日（公表日）： 2014年04月21日
要約：
【課題】描画位置に対するDMDの描画データ抽出の確からしさを高速かつ容易に確認できるようにし、高品質なパターンの描画を高いスループットで実行する。【解決手段】パターン形成装置は、二方向に配列された複数のミラー群を描画データに基づいて駆動する空間的光変調器を用いて光ビームを変調し、樹脂膜の塗布された基材を保持するステージ手段を相対的に移動させながら光ビームを照射することによって基材の樹脂膜に描画データに基づいたパターンを形成する。描画データの座標がステージ手段の移動方向及び/又は移動方向に対する直交方向に、描画分解能に相当する値だけ補正された場合、その補正値を判別するための判別可能データを描画データの一部として構成したものをメモリに記憶しておき、描画データの座標が補正された時点でそのメモリの描画データの一部から判別可能データを読み出して補正値に対応したパターンを描画する。【選択図】図12
請求項（抜粋）：
二方向に配列された複数のミラー群を描画データに基づいて駆動する空間的光変調器を用いて光ビームを変調し、樹脂膜の塗布された基材を保持するステージ手段を相対的に移動させながら前記光ビームを照射することによって前記基材の前記樹脂膜に前記描画データに基づいたパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記描画データの座標が前記ステージ手段の移動方向及び/又は前記移動方向に対する直交方向に、描画分解能に相当する値だけ補正された場合、その補正値を判別するための判別可能データを前記描画データの一部として構成し、
前記描画データの座標が補正された時点で前記描画データの一部から前記判別可能データを読み出して前記補正値に対応したパターンを描画することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (3件)：
G03F 7/20
, H01L 21/027
, G02F 1/136
G03F7/20 505
, H01L21/30 529
, G02F1/1368
2H092JA24
, 2H092MA05
, 2H092MA08
, 2H092MA15
, 2H092MA16
, 2H092MA18
, 2H092MA35
, 2H092NA27
, 2H097AA03
, 2H097AB08
, 2H097BA10
, 2H097BB10
, 2H097GB04
, 2H097LA12
, 5F146BA07
, 5F146CB34
, 5F146CC13
, 5F146DA44
