特許
J-GLOBAL ID:201403074121595450
液状化対策のための地盤改良体及びその形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 嘉英
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-207841
公開番号(公開出願番号):特開2014-062393
出願日: 2012年09月21日
公開日(公表日): 2014年04月10日
要約:
【課題】 既に個人用住宅が建造されている地域において、深層混合処理工法を利用して地盤改良体を形成する際に、適切かつ確実で安価に液状化強度を向上させる。【解決手段】 深層混合処理工法(高圧噴射攪拌工法)により地盤改良体を形成する。地盤改良体は、改良対象地盤上に既存建造物40が存在しない区域において、その下端部が基盤層まで達するように形成した第1の地盤改良体10a、もしくは当該既存建造物40が存在する区域において、その下端部が基盤層まで達しないように形成した第1の地盤改良体10bと、既存建造物40の直下付近の地盤中において、当該既存建造物40の下部を略支えるように形成した略鉛直方向の第2の地盤改良体21、もしくは当該既存建造物40の下部を略覆うように形成した略水平方向の第2の地盤改良体22とからなる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
液状化対策を行う改良対象地盤中に噴射管を貫入し、当該噴射管の先端部から前記改良対象地盤中に地盤改良材を噴射することにより、当該改良対象地盤中に形成した地盤改良体であって、略鉛直方向の第1の地盤改良体と、略鉛直方向もしくは略水平方向の第2の地盤改良体とからなり、
前記第1の地盤改良体は、前記改良対象地盤上に既存建造物が存在しない区域において、その下端部が基盤層まで達するように形成すると共に、当該既存建造物が存在する区域において、その下端部が基盤層まで達しないように形成し、
前記第2の地盤改良体は、前記既存建造物の直下付近の地盤中において、当該既存建造物の下部を略支えるように、もしくは当該既存建造物の下部を略覆うように形成する、
ことを特徴とする液状化対策のための地盤改良体。
IPC (4件):
E02D 27/34
, E02D 27/26
, E02D 27/28
, E02D 3/12
FI (4件):
E02D27/34 Z
, E02D27/26
, E02D27/28
, E02D3/12 102
Fターム (10件):
2D040AA01
, 2D040AB03
, 2D040AC02
, 2D040BA01
, 2D040BD02
, 2D040BD03
, 2D040BD04
, 2D040CA00
, 2D040CB00
, 2D046DA17
引用特許: