特許
J-GLOBAL ID:201403076806865267

酸性ガス分離複合膜の製造方法及び酸性ガス分離膜モジュール

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-028350
公開番号(公開出願番号):特開2014-208327
出願日: 2014年02月18日
公開日(公表日): 2014年11月06日
要約:
【課題】ゲル状の促進輸送膜を備えた酸性ガス分離複合膜において、高圧環境下、高流量の水蒸気を含む被分離ガスの分離における分離性能の耐久性を付与する【解決手段】複数のフィブリル201が交差、連結、又は枝分かれして形成された三次元網目構造200と、複数のフィブリル201によって区分された微細な間隙からなる多数の空孔203とを備えてなる疎水性多孔質体2aを用意し、その上に、疎水性多孔質体2aの一表面に配された酸性ガス分離促進輸送膜3と、疎水性多孔質体2aの裏面に積層された補助支持体2bとを備えてなり、酸性ガス分離促進輸送膜3の形成された表面と平行な面内における平均フィブリル間距離を0.001μm以上2μm以下、同面内における平均フィブリル長を0.01μm以上2μm以下、同表面と垂直方向の平均フィブリル間距離を0.001μm以上2μm以下とする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
少なくとも一表面に疎水性多孔質体を備えた支持体上に、少なくとも親水性化合物および被分離ガス中の酸性ガスと反応する酸性ガスキャリアを含む促進輸送膜を備えてなる酸性ガス分離複合膜の製造方法であって、 複数のフィブリルが交差、連結、又は枝分かれして形成された三次元網目構造と、前記複数のフィブリルによって区分された微細な間隙からなる多数の空孔とを備えてなり、 前記三次元網目構造が、前記支持体の前記促進輸送膜を備える表面と平行な面内における平均フィブリル間距離が0.001μm以上2μm以下、且つ、前記面内における平均フィブリル長が0.01μm以上2μm以下であり、前記表面と垂直方向の平均フィブリル間距離が0.001μm以上2μm以下である前記疎水性多孔質体を用意し、 少なくとも前記親水性化合物と前記酸性ガスキャリアを含むヒドロゲル状の塗布液を調製し、 前記疎水性多孔質体の一表面に前記塗布液を塗工する酸性ガス分離複合膜の製造方法。
IPC (8件):
B01D 69/00 ,  B01D 69/10 ,  B01D 71/36 ,  B01D 71/32 ,  B01D 71/70 ,  B01D 53/22 ,  C08J 7/04 ,  B01D 69/12
FI (9件):
B01D69/00 500 ,  B01D69/10 ,  B01D71/36 ,  B01D71/32 ,  B01D71/70 ,  B01D53/22 ,  C08J7/04 Z ,  C08J7/04 ,  B01D69/12
Fターム (54件):
4D006GA41 ,  4D006HA62 ,  4D006JA05A ,  4D006JA05C ,  4D006JA06A ,  4D006JA06C ,  4D006JA19Z ,  4D006JA22C ,  4D006JA30A ,  4D006JB06 ,  4D006JB09 ,  4D006LA06 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA18 ,  4D006MA31 ,  4D006MA40 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB18 ,  4D006MC01X ,  4D006MC02 ,  4D006MC03 ,  4D006MC04 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC28 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC32 ,  4D006MC33X ,  4D006MC36X ,  4D006MC38 ,  4D006MC40 ,  4D006MC47 ,  4D006MC48 ,  4D006MC49 ,  4D006MC54 ,  4D006MC58 ,  4D006MC61 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC65 ,  4D006NA46 ,  4D006NA64 ,  4D006PA02 ,  4D006PB64 ,  4D006PB70 ,  4F006AA18 ,  4F006AA42 ,  4F006AB20 ,  4F006BA00 ,  4F006CA00 ,  4F006DA05
引用特許:
審査官引用 (6件)
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