特許
J-GLOBAL ID：201403078562845806

マクロ検査装置

発明者：
宇田 満

宇田 満 について

, 
小早瀬 敦

小早瀬 敦 について

, 
清水 久

清水 久 について


出願人/特許権者：
スミックス株式会社

スミックス株式会社 について


代理人 (1件)： 小池 文雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-026567
公開番号（公開出願番号）：特開2014-157024
出願日： 2013年02月14日
公開日（公表日）： 2014年08月28日
要約：
【課題】レチクル用基板のフォトレジストの膜厚ムラ及びその分布を高感度で検出することができるマクロ検査装置を提供する。【解決手段】レチクル用基板2の表面を成すフォトレジスト膜の膜厚ムラを検査するマクロ検査装置100を提供する。マクロ検査装置100は、レチクル用基板2を乗せるためのステージ1と、レチクル用基板2の表面に対して第1の角度方向θ1からレチクル用基板2に光を照射するライン光源5と、レチクル用基板2の表面に対して第2の角度方向θ2からレチクル用基板2の表面からの反射光を受光するラインセンサカメラ9とを備える。その第2の角度は、ラインセンサカメラ9を第2の角度を含む所定の角度範囲内で所定のステップで移動させる際に、レチクル用基板2の表面に写るライン光源の写像がレチクル用基板2の表面の中央部に位置する場合の角度として設定される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レチクル用基板の表面を成すフォトレジスト膜の膜厚ムラを検査するマクロ検査装置であって、 前記レチクル用基板を乗せるためのステージと、 前記レチクル用基板の表面に対して第1の角度方向から前記レチクル用基板に光を照射するライン光源と、 前記レチクル用基板の表面に対して第2の角度方向から前記レチクル用基板の表面からの反射光を受光するラインセンサと、を備え、 前記第2の角度は、前記ラインセンサを第2の角度を含む所定の角度範囲内で所定のステップで移動させる際に、前記レチクル用基板の表面に写る前記ライン光源の写像が前記レチクル用基板の表面の中央部に位置する場合の角度として設定される、マクロ検査装置。
IPC (3件)：
G01B 11/30 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01B11/30 A ,  G01N21/956 A ,  H01L21/66 J
Fターム (42件)：
2F065AA30 ,  2F065AA47 ,  2F065BB01 ,  2F065CC31 ,  2F065FF42 ,  2F065GG07 ,  2F065GG14 ,  2F065GG16 ,  2F065HH12 ,  2F065HH18 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ25 ,  2F065PP11 ,  2F065QQ41 ,  2G051AA56 ,  2G051AB07 ,  2G051AB10 ,  2G051AC15 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051BB09 ,  2G051BB20 ,  2G051BC01 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CC09 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EA24 ,  2G051EC02 ,  2G051EC03 ,  2G051FA00 ,  4M106AA09 ,  4M106BA04 ,  4M106CA24 ,  4M106CA38 ,  4M106DB04 ,  4M106DB19
引用特許：
審査官引用 (4件)
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