特許

J-GLOBAL ID：201403079808953316

干渉計システム、リソグラフィー装置、それを用いた物品の製造方法

発明者： ▲濱▼谷 善一 ,  高井 亮 ,  平井 真一郎 ,  六川 健志 ,  三浦 隆史
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高岡 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-006617
公開番号（公開出願番号）：特開2014-137303
出願日： 2013年01月17日
公開日（公表日）： 2014年07月28日
要約：

【課題】レーザー干渉計を用いて計測対象物の位置を計測する際の計測誤差を低減するのに有利な干渉計システムを提供する。【解決手段】干渉計システム1は、計測対象物2に計測光を照射して、計測対象物2の位置を計測する。この干渉計システム1は、レーザー光源3と、レーザー光源3の出射口3aから出射されるレーザー光を計測光と参照光とに分離する干渉計4、5と、レーザー光が内部を通過するように光軸の周囲を覆い、一方の開口部を出射口3aに密着させた光路保護部材10とを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

計測対象物に計測光を照射して、前記計測対象物の位置を計測する干渉計システムであって、 レーザー光源と、 前記レーザー光源の出射口から出射されるレーザー光を前記計測光と参照光とに分離する干渉計と、 前記レーザー光が内部を通過するように光軸の周囲を覆い、一方の開口部を前記出射口に密着させた光路保護部材と、 を有することを特徴とする干渉計システム。

IPC (4件)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (5件)：

G01B9/02 ,  G01B11/00 G ,  H01L21/30 503A ,  H01L21/30 515G ,  G03F7/20 521

Fターム (36件)：

2F064AA01 ,  2F064BB01 ,  2F064DD02 ,  2F064DD04 ,  2F064DD06 ,  2F064EE01 ,  2F064FF01 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG23 ,  2F064HH01 ,  2F064HH06 ,  2F064KK01 ,  2F064KK04 ,  2F065AA03 ,  2F065BB01 ,  2F065CC17 ,  2F065DD11 ,  2F065DD17 ,  2F065FF52 ,  2F065FF55 ,  2F065GG04 ,  2F065HH03 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ15 ,  2F065LL12 ,  2F065LL37 ,  2F065LL46 ,  2F065PP12 ,  2F065UU07 ,  5F146CC01 ,  5F146CC02 ,  5F146CC03 ,  5F146CC04 ,  5F146CC16