特許
J-GLOBAL ID：201403079872527959
生体用高濃度水素ガス供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
とこしえ特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-012881
公開番号（公開出願番号）：特開2014-122148
出願日： 2013年01月28日
公開日（公表日）： 2014年07月03日
要約：
【課題】健康上有益な水素ガスを医療の現場や家庭で安全に使用することができる生体用水素ガス供給装置を提供する。【解決手段】水素発生剤1、該水素発生剤を有する水素ガス発生器3、該水素発生剤と反応用水2の反応により発生する水素ガスを希釈するための希釈用ガス供給器7または真空ポンプ8のうち少なくともいずれか一方を備え、前記水素ガス発生器は、その気相部4の一部あるいは全部が水素ガス透過膜5で覆われている特徴を備え、前記希釈用ガス供給器または真空ポンプから供給される希釈用ガスが水素ガスと混合されることにより、1mL/分以上の通気量で、水素ガス濃度が0.1vol%以上18.3vol%未満の混合ガスを生体に供給し、前記希釈用ガスの供給が停止した場合であっても、水素発生時の前記水素発生剤又は反応用水水面から7cm離れた位置の水素ガス濃度を18.3vol%未満に維持する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
水素発生剤、該水素発生剤を有する水素ガス発生器、および該水素発生剤と反応用水の反応により発生する水素ガスを希釈するための希釈用ガス供給器または真空ポンプのうち少なくともいずれか一方を備え、
前記水素ガス発生器は、その気相部の一部あるいは全部が水素ガス透過膜で覆われている特徴を備え、
前記希釈用ガス供給器または真空ポンプを用いて供給される希釈用ガスが水素ガスと混合されることにより、1mL/分以上の通気量で、水素ガス濃度が0.1vol%以上18.3vol%未満の混合ガスを、生体に供給することができる生体用水素ガス供給装置であって、
前記希釈用ガスの供給が停止した場合であっても、水素発生時の前記水素発生剤又は反応用水水面から7cm離れた位置の水素ガス濃度を18.3vol%未満に維持することを特徴とする生体用水素ガス供給装置。
IPC (4件)：
C01B 3/00
, C01B 3/06
, C01B 3/08
, A61M 16/12
C01B3/00 Z
, C01B3/06
, C01B3/08 Z
, A61M16/12
