特許

J-GLOBAL ID：201403081514976681

水素供給システム

発明者： 瀬川 敦司 ,  壱岐 英 ,  岡崎 順二 ,  根本 典明 ,  稲田 和広 ,  石川 敬郎 ,  高村 哲夫 ,  伏見 友明
出願人/特許権者： JX日鉱日石エネルギー株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (5件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  清水 義憲 ,  平野 裕之 ,  柳 康樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-221379
公開番号（公開出願番号）：特開2014-073922
出願日： 2012年10月03日
公開日（公表日）： 2014年04月24日
要約：

【課題】 脱水素反応を行う反応器を大きくすることなく、当該反応器の耐久性を向上する。【解決手段】 脱水素反応器3に供給するオフガスラインGL1が、水素精製器8からのオフガスの一部または全部を脱水素反応器3へ供給することで、脱水素反応を水素共存下で行うことを可能とする。また、オフガスは、脱水素反応器3からの水素含有ガスのうち、水素精製器8で脱水素生成物を除去できなかったガスである。従って、オフガスラインGL1が当該オフガスを脱水素反応器3へ供給し、再び水素精製器8で脱水素生成物の除去を可能とすることで、水素精製器8での除去効率が低い場合であっても、脱水素反応器3を大きくすることなく、目的量の水素を得ることができる。以上により、脱水素反応を行う反応器を大きくすることなく、当該反応器の耐久性を向上させることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水素の供給を行う水素供給システムであって、 原料を脱水素反応させることによって水素含有ガスを得る反応部と、 前記反応部に熱を供給する熱供給部と、 前記反応部で得られた前記水素含有ガスから脱水素生成物を吸着によって除去する除去部と、 前記除去部からのオフガスの一部または全部を前記反応部に供給する第1オフガスラインと、を備えることを特徴とする水素供給システム。

IPC (1件)：

C01B 3/26

FI (1件)：

C01B3/26

Fターム (2件)：

4G140DA03 ,  4G140DB05