特許
J-GLOBAL ID:201403082057189144
高解像度画像を提供する偏光ビームスプリッタの製造方法及びそのビームスプリッタを利用するシステム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
長谷川 芳樹
, 池田 成人
, 清水 義憲
, 酒巻 順一郎
, 石塚 淳一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-543611
公開番号(公開出願番号):特表2014-534480
出願日: 2012年11月27日
公開日(公表日): 2014年12月18日
要約:
偏光ビームスプリッタ、そのようなビームスプリッタの製造方法、及びそのようなビームスプリッタを組み込んだシステムが説明される。より具体的には、多層光学フィルムを組み込み、結像光を高有効解像度で視聴者又は鑑賞スクリーンへ反射する、偏光ビームスプリッタ、そのようなビームスプリッタの製造方法、及びそのようなビームスプリッタを有するシステムが説明される。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
フラットフィルムの製造方法であって、
多層光学フィルムを準備することと、
一時平面基板を準備することと、
前記多層光学フィルムの第1表面を、前記一時平面基板に着脱自在に取り付けることと、
永久基板を準備することと、
前記多層光学フィルムの第2表面を前記永久基板に取り付けることと、
前記多層光学フィルムを前記一時平面基板から取り除くことと、を含む方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (18件):
2H149AA17
, 2H149AB01
, 2H149BA03
, 2H149BB28
, 2H149CA02
, 2H149EA12
, 2H149EA22
, 2H149EA27
, 2H149FA08Z
, 2H149FB01
, 2H149FD44
, 5G435BB12
, 5G435FF01
, 5G435FF05
, 5G435GG03
, 5G435HH20
, 5G435KK07
, 5G435LL15
引用特許:
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