特許
J-GLOBAL ID:201403082057189144

高解像度画像を提供する偏光ビームスプリッタの製造方法及びそのビームスプリッタを利用するシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 長谷川 芳樹 ,  池田 成人 ,  清水 義憲 ,  酒巻 順一郎 ,  石塚 淳一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-543611
公開番号(公開出願番号):特表2014-534480
出願日: 2012年11月27日
公開日(公表日): 2014年12月18日
要約:
偏光ビームスプリッタ、そのようなビームスプリッタの製造方法、及びそのようなビームスプリッタを組み込んだシステムが説明される。より具体的には、多層光学フィルムを組み込み、結像光を高有効解像度で視聴者又は鑑賞スクリーンへ反射する、偏光ビームスプリッタ、そのようなビームスプリッタの製造方法、及びそのようなビームスプリッタを有するシステムが説明される。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
フラットフィルムの製造方法であって、 多層光学フィルムを準備することと、 一時平面基板を準備することと、 前記多層光学フィルムの第1表面を、前記一時平面基板に着脱自在に取り付けることと、 永久基板を準備することと、 前記多層光学フィルムの第2表面を前記永久基板に取り付けることと、 前記多層光学フィルムを前記一時平面基板から取り除くことと、を含む方法。
IPC (2件):
G02B 5/30 ,  G09F 9/00
FI (2件):
G02B5/30 ,  G09F9/00 338
Fターム (18件):
2H149AA17 ,  2H149AB01 ,  2H149BA03 ,  2H149BB28 ,  2H149CA02 ,  2H149EA12 ,  2H149EA22 ,  2H149EA27 ,  2H149FA08Z ,  2H149FB01 ,  2H149FD44 ,  5G435BB12 ,  5G435FF01 ,  5G435FF05 ,  5G435GG03 ,  5G435HH20 ,  5G435KK07 ,  5G435LL15
引用特許:
審査官引用 (5件)
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