特許
J-GLOBAL ID：201403082198752640

洗浄剤組成物

発明者：
陳 貞儒

陳 貞儒 について

, 
山本 奈緒子

山本 奈緒子 について

, 
友國 敦史

友國 敦史 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (5件)： 特許業務法人アルガ特許事務所 ,  高野 登志雄 ,  中嶋 俊夫 ,  村田 正樹 ,  山本 博人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-159807
公開番号（公開出願番号）：特開2014-141448
出願日： 2013年07月31日
公開日（公表日）： 2014年08月07日
要約：
【課題】ウォータープルーフマスカラなどの落ちにくいメイクも十分に落とすことができ、拭き取り後、または、すすぎ後の肌がさっぱりする洗浄剤組成物の提供。【解決手段】アクリレーツ/メタクリル酸ステアレス-20)コポリマー、(アクリレーツ/メタクリル酸ステアレス-20)クロスポリマー及び(アクリレーツ/メタクリル酸ベヘネス-25)コポリマーポリマー等から選ばれるポリマー(A)0.001〜5質量%、エーテル油(b1)及び30°Cにおける粘度が18mPa・s以下である炭化水素油(b2)から選ばれる1種又は2種以上の油剤(B)1〜50質量%、並びに水(C)を含有し、HLB8以上の非イオン性界面活性剤(D)を含有しないか又は5質量%未満含有する洗浄剤組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
次の成分(A)、(B)並びに(C): (A)(A-1)、(A-2)及び(A-3)から選ばれるポリマー 0.001〜5質量%、 (A-1)(a1)、(a2)及び(a3)から選ばれるモノマーを構成単位として含み、(a2)を全モノマーに対するモル比で10モル%以上含有するコポリマー、 (a1)アクリル酸及びメタクリル酸から選ばれるモノマー、 (a2)アクリル酸アルキルエステル及びメタクリル酸アルキルエステルから選ばれるモノマー、 (a3)アクリル酸のポリオキシエチレンアルキルエステル及びメタクリル酸のポリオキシエチレンアルキルエステルから選ばれるモノマー; (A-2)平均分子量300〜100000のポリオキシアルキレン鎖を有し、一般式(1)
IPC (13件)：
A61K 8/91 ,  A61K 8/73 ,  A61K 8/92 ,  A61Q 19/10 ,  A61K 8/34 ,  A61K 8/84 ,  C11D 7/22 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/24 ,  C11D 1/66 ,  C11D 3/37 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/18
FI (13件)：
A61K8/91 ,  A61K8/73 ,  A61K8/92 ,  A61Q19/10 ,  A61K8/34 ,  A61K8/84 ,  C11D7/22 ,  C11D7/26 ,  C11D7/24 ,  C11D1/66 ,  C11D3/37 ,  C11D3/20 ,  C11D3/18
Fターム (35件)：
4C083AB032 ,  4C083AC011 ,  4C083AC012 ,  4C083AC101 ,  4C083AC111 ,  4C083AC122 ,  4C083AC171 ,  4C083AC172 ,  4C083AC402 ,  4C083AC422 ,  4C083AC442 ,  4C083AD022 ,  4C083AD041 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD211 ,  4C083BB04 ,  4C083BB11 ,  4C083CC23 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4H003AC03 ,  4H003AC05 ,  4H003AC10 ,  4H003BA12 ,  4H003DA02 ,  4H003EA21 ,  4H003EB02 ,  4H003EB04 ,  4H003EB06 ,  4H003EB09 ,  4H003EB30 ,  4H003ED02 ,  4H003ED28 ,  4H003FA21
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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