特許

J-GLOBAL ID：201403082751545918

描画データの生成方法、処理装置、プログラム、描画装置及び物品製造方法

発明者： 杉山 佑輔
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-009616
公開番号（公開出願番号）：特開2014-143254
出願日： 2013年01月22日
公開日（公表日）： 2014年08月07日
要約：

【課題】 例えば、パターンデータの回転処理を伴う描画データの生成を効率的に行う。【解決手段】 二次元格子上のドットで表現されたパターンデータに基づいて、描画装置により基板に描画を行うための描画データを生成する生成方法は、前記パターンデータを回転させる角度に基づいて、前記二次元格子を複数の矩形領域に分割し、前記複数の矩形領域のそれぞれに関して、前記角度に基づいて前記パターンデータの部分データの並進移動量を求める。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

二次元格子上のドットで表現されたパターンデータに基づいて、描画装置により基板に描画を行うための描画データを生成する生成方法であって、 前記パターンデータを回転させる角度に基づいて、前記二次元格子を複数の矩形領域に分割し、 前記複数の矩形領域のそれぞれに関して、前記角度に基づいて前記パターンデータの部分データの並進移動量を求める、 ことを特徴とする生成方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 541Z ,  H01L21/30 541W

Fターム (4件)：

5F056CA02 ,  5F056CA09 ,  5F056CA15 ,  5F056CD09