特許

J-GLOBAL ID：201403084059726409

光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法

発明者： 梅川 秀喜 ,  佐藤 誠
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-213443
公開番号（公開出願番号）：特開2014-065853
出願日： 2012年09月27日
公開日（公表日）： 2014年04月17日
要約：

【課題】 塩素系ガスのエッチング耐性に優れ、生産性、及び長期間保存安定性に優れた光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。さらには、比較的低い圧力で金型を押し当てた場合でも、パターンの転写が容易にでき、且つ、該パターンの基材との密着性が良く、金型からの離型性が良い等、ナノインプリントパターン転写性が良好な光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。【解決手段】 光硬化性ナノインプリント用組成物は、(A)(メタ)アクリル基を有する有機珪素化合物、(B)ヘテロポリ酸、(C)(メタ)アクリル基を有する重合性単量体、(D)光重合開始剤を含んでなる。さらに、(E)有機珪素化合物、および/または(F)フッ素化有機シラン化合物を含んでもよい。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)下記式(1)

IPC (3件)：

C08F 2/46 ,  C08F 230/08 ,  C08F 220/10

FI (3件)：

C08F2/46 ,  C08F230/08 ,  C08F220/10

Fターム (19件)：

4J011QA03 ,  4J011QA12 ,  4J011QA43 ,  4J011SA05 ,  4J011SA06 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J011WA07 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL66P ,  4J100BA02P ,  4J100BA71Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC48P ,  4J100CA04 ,  4J100FA27 ,  4J100JA46