特許
J-GLOBAL ID:201403084142061362

パターン形成物の検査エリア設定方法および検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-171984
公開番号(公開出願番号):特開2014-032073
出願日: 2012年08月02日
公開日(公表日): 2014年02月20日
要約:
【課題】平面上に配置されたパターン形成物の検査を行うにあたり、平面基板を所定の位置に設置する際の基板設置精度により、設計上の検査エリアから検査対象パターンがずれて、精確な検査ができなくなることを回避するための、より一般化した簡単な検査エリア設定方法を提供すること。【解決手段】パターンを含む全有効領域に亘り撮像カメラにより輝度情報を入手して、得られた輝度情報の分布に基いて輝度範囲別にランク付けした複数の検査基礎エリアを設定し、検査を行う複数の検査エリアを、それぞれの検査基礎エリアから誘導して形成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
平面上に配置されたパターン形成物の検査を行う際に、パターンを含む全有効領域に亘り撮像カメラにより輝度情報を入手して、得られた輝度情報の分布に基いて輝度範囲別にランク付けした複数の検査基礎エリアを設定し、検査を行う複数の検査エリアを、それぞれの検査基礎エリアから誘導して形成することを特徴とするパターン形成物の検査エリア設定方法。
IPC (1件):
G01N 21/956
FI (1件):
G01N21/956 Z
Fターム (8件):
2G051AA73 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051AC02 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051EB01

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