特許
J-GLOBAL ID：201403087101090519

リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法

発明者：
向井 一晃

向井 一晃 について

, 
安田 敦

安田 敦 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-079505
公開番号（公開出願番号）：特開2014-202943
出願日： 2013年04月05日
公開日（公表日）： 2014年10月27日
要約：
【課題】リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法の提供【解決手段】(メタ)アクリレート骨格を有する単量体を溶液重合して得られる重合体の製造方法であって、供給される単量体の全使用量のうち85%以上まで反応率が上昇した後に、供給される重合開始剤の全使用量のうち1.0%〜15.0%の重合開始剤を含み、かつ、単量体を含まない溶液を該反応容器内にさらに供給する、リソグラフィー用重合体の製造方法、該重合体を用いたレジスト組成物の製造方法、該組成物を用いた基板の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(メタ)アクリレート骨格を有する単量体を溶液重合して得られる重合体の製造方法であって、 供給される単量体の全使用量のうち85%以上まで反応率が上昇した後に、 供給される重合開始剤の全使用量のうち1.0%〜15.0%の重合開始剤を含み、かつ、単量体を含まない溶液を該反応容器内にさらに供給する、 リソグラフィー用重合体の製造方法。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  C08F 2/06 ,  C08F 20/10
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  C08F2/06 ,  C08F20/10
Fターム (45件)：
2H125AF17P ,  2H125AF35P ,  2H125AH13 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ70X ,  2H125AN39P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125EA02P ,  4J011AA01 ,  4J011AA02 ,  4J011AB02 ,  4J011BA03 ,  4J011BB02 ,  4J011BB09 ,  4J011BB15 ,  4J011HA03 ,  4J011HB02 ,  4J011HB06 ,  4J100AJ02R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100FA39 ,  4J100GB01 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (7件)
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