特許
J-GLOBAL ID：201403087249749340
プラント制御装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
高橋 英樹
, 高田 守
, 大西 秀和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-002778
公開番号（公開出願番号）：特開2014-134967
出願日： 2013年01月10日
公開日（公表日）： 2014年07月24日
要約：
【課題】プラントの特定状態量に課せられた制約が充足されるようにリファレンスガバナを用いて修正目標値を演算するにあたり、少ない演算負荷で高い制約充足性を得られるようにする。【解決手段】プラント制御装置はFBC(フィードバックコントローラ)とRG(リファレンスガバナ)とを備える。RGは、制約を満たすことのできる修正目標値を二分探索法に基づく反復アルゴリズムに従い探索する。この探索において、修正目標値の前回値がオリジナルの目標値よりも大きい場合、RGは目標値を探索区間の初期下限値に設定するとともに修正目標値の前回値より大きい値を探索区間の初期上限値に設定する。また、修正目標値の前回値がオリジナルの目標値よりも小さい場合、RGは目標値を探索区間の初期上限値に設定するとともに修正目標値の前回値より小さい値を探索区間の初期下限値に設定する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
プラントの制御量の出力値を目標値に近づけるようにフィードバック制御によって前記プラントの制御入力を決定するフィードバックコントローラと、
前記プラントと前記フィードバックコントローラとを含む閉ループ系のモデルを用いて前記プラントの特定状態量の将来の予測値を計算し、前記予測値と前記特定状態量に課せられた制約とに基づいて前記フィードバックコントローラに与えられる前記目標値を修正するリファレンスガバナとを備え、
前記リファレンスガバナは、二分探索法に基づく反復アルゴリズムに従い前記制約を満たすことのできる修正目標値を探索するように構成され、
前記リファレンスガバナは、前記修正目標値の前回値が前記目標値よりも大きい場合、前記修正目標値の今回値の探索において、前記目標値を探索区間の初期下限値に設定するとともに前記修正目標値の前回値より大きい値を探索区間の初期上限値に設定することを特徴とするプラント制御装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
5H004GA40
, 5H004GB12
, 5H004JA03
, 5H004JA11
, 5H004KC27
