特許

J-GLOBAL ID：201403088018882043

非酸化物単結晶基板の研磨方法

発明者： 吉田 伊織
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人サクラ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-062124
公開番号（公開出願番号）：特開2014-168067
出願日： 2014年03月25日
公開日（公表日）： 2014年09月11日
要約：

【課題】炭化ケイ素単結晶基板等の硬度が高く化学的安定性が高い非酸化物単結晶基板を、より長い循環研磨時間においても、高い研磨速度を維持することが可能な研磨方法を提供する。【解決手段】研磨パッドに、過マンガン酸イオンと水を含む研磨液を供給し、非酸化物単結晶基板の被研磨面と前記研磨パッドを接触させ、両者間の相対運動により研磨する研磨方法であり、前記研磨パッドに供給され研磨に使用された研磨液を回収し、前記回収した研磨液を再び研磨パッドに供給する操作を繰り返し行うことで前記研磨液を循環させるとともに、前記被研磨面を研磨する時点での前記研磨液のpHを5以下に調整する非酸化物単結晶基板の研磨方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

研磨パッドに、過マンガン酸イオンと水を含む研磨液を供給し、非酸化物単結晶基板の被研磨面と前記研磨パッドを接触させ、両者間の相対運動により研磨する方法であり、 前記研磨パッドに供給され研磨に使用された研磨液を回収し、前記回収した研磨液を再び研磨パッドに供給する操作を繰り返し行うことで前記研磨液を循環させるとともに、 前記被研磨面を研磨する時点での前記研磨液のpHを5以下に調整することを特徴とする非酸化物単結晶基板の研磨方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  C09K 3/14 ,  C09G 1/02

FI (6件)：

H01L21/304 622E ,  H01L21/304 622C ,  H01L21/304 622Z ,  C09K3/14 550Z ,  C09K3/14 550C ,  C09G1/02

Fターム (16件)：

5F057AA06 ,  5F057AA12 ,  5F057AA43 ,  5F057BA12 ,  5F057BB06 ,  5F057BB09 ,  5F057BC05 ,  5F057BC06 ,  5F057CA11 ,  5F057DA03 ,  5F057EA02 ,  5F057EA22 ,  5F057EA26 ,  5F057EA32 ,  5F057EB07 ,  5F057FA43