特許

J-GLOBAL ID：201403088822321968

機能性膜形成方法および機能性膜形成装置

発明者： 池森 一博
出願人/特許権者： 東レエンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-056291
公開番号（公開出願番号）：特開2014-181375
出願日： 2013年03月19日
公開日（公表日）： 2014年09月29日
要約：

【課題】エアロゾルディポジション法(AD法)により、シート状基板の表面に機能性膜を作成する方法の提供。【解決手段】基板上の一つまたは複数の機能性膜形成領域を覆うことが可能な局所減圧チャンバーを、基板上の機能性膜形成領域を覆う様当接させ、局所減圧チャンバー内に局所的な減圧空間を形成する、減圧空間形成工程と、局所的な減圧空間を減圧する減圧工程と、減圧状態の局所的な減圧空間へ微粉末材料を供給し、エアロゾルデポジション法により微粉末材料を基板上に高速噴射して衝突させ、融着させることにより機能性膜を基板上の機能性膜形成領域に形成させる、膜形成工程と、次の機能性膜形成領域に局所減圧チャンバーを移動させる移動工程と、を有し、減圧空間形成工程、減圧工程、膜形成工程、および移動工程とを繰り返すことにより基板上に逐次機能性膜を形成する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板上に機能性膜を形成するための微粉末材料を減圧環境下で高速に基板に衝突させ、衝突エネルギーにより前記微粉末を基板上に融着させる機能性膜形成方法であって、 基板上の一つまたは複数の機能性膜形成領域を覆うことが可能な局所減圧チャンバーを、基板上の前記機能性膜形成領域を覆う様当接させ、前記局所減圧チャンバー内に局所的な減圧空間を形成する、減圧空間形成工程と、 前記局所的な減圧空間を減圧する減圧工程と、 減圧状態の前記局所的な減圧空間へ前記微粉末材料を供給し、エアロゾルデポジション法により前記微粉末材料を基板上に高速噴射して衝突させ、融着させることにより機能性膜を基板上の前記機能性膜形成領域に形成させる、膜形成工程と、 次の前記機能性膜形成領域に前記局所減圧チャンバーを移動させるシフト工程と、 を有し、前記減圧空間形成工程、減圧工程、膜形成工程、およびシフト工程とを繰り返すことにより基板上に逐次機能性膜を形成することを特徴とする、機能性膜形成方法。

IPC (3件)：

C23C 24/04 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C24/04 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 B

Fターム (20件)：

4K044AA12 ,  4K044AA13 ,  4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA11 ,  4K044BA21 ,  4K044BB10 ,  4K044BB11 ,  4K044BC14 ,  4K044CA21 ,  4K044CA51 ,  4K044CA53 ,  4K044CA71 ,  5F045AF02 ,  5F045AF03 ,  5F045AF07 ,  5F045DP03 ,  5F045EF10 ,  5F045EG01 ,  5F045EG05