特許
J-GLOBAL ID：201403089048802342

シリコーン組成物

発明者：
青木 裕介

青木 裕介 について

, 
吉岡 謙

吉岡 謙 について


出願人/特許権者：
国立大学法人三重大学

国立大学法人三重大学 について

, 
コーア株式会社

コーア株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-203579
公開番号（公開出願番号）：特開2014-058609
出願日： 2012年09月14日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
要約：
【課題】高温下での長期耐熱性に優れたシリコーン組成物を提供する。【解決手段】ポリジメチルシロキサンの末端水酸基をシリコンアルコキシドで変性したシリコンアルコキシド変性ポリジメチルシロキサンと、アセト酢酸エチルで安定化処理したアルコキシ基の炭素数が4以上のチタンアルコキシドにてポリジメチルシロキサンの末端水酸基を変性したアセト酢酸エチル修飾チタンアルコキシド変性ポリジメチルシロキサンと、からなる。高温度に保持しても重量減少が少なく、柔軟性を失わない。高温に連続的に曝される環境下で使用できる。適度な粘性を有し、ペースト状にするためのベース樹脂として使用でき、必要に応じフィラーを配合したペーストとすることによってスクリーン印刷用にできる。常温での保存安定性に優れ、取り扱い性を向上できる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ポリジメチルシロキサンの末端水酸基をシリコンアルコキシドで変性したシリコンアルコキシド変性ポリジメチルシロキサンと、 アセト酢酸エチルで安定化処理したアルコキシ基の炭素数が4以上のチタンアルコキシドにてポリジメチルシロキサンの末端水酸基を修飾したアセト酢酸エチル修飾チタンアルコキシド変性ポリジメチルシロキサンと、 からなる ことを特徴とするシリコーン組成物。
IPC (5件)：
C08L 85/00 ,  C08L 83/06 ,  C08G 77/398 ,  C08G 77/58 ,  C08G 77/18
FI (5件)：
C08L85/00 ,  C08L83/06 ,  C08G77/398 ,  C08G77/58 ,  C08G77/18
Fターム (36件)：
4J002CP05X ,  4J002CQ03W ,  4J002GH00 ,  4J002GQ05 ,  4J246AA03 ,  4J246AA11 ,  4J246AB01 ,  4J246AB15 ,  4J246BA02X ,  4J246BA020 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB021 ,  4J246BB023 ,  4J246BB05X ,  4J246BB050 ,  4J246BB052 ,  4J246BB053 ,  4J246CA12E ,  4J246CA12U ,  4J246CA12X ,  4J246CA120 ,  4J246CA14M ,  4J246CA14X ,  4J246CA140 ,  4J246CA24X ,  4J246CA240 ,  4J246CA88E ,  4J246CA88M ,  4J246CA88X ,  4J246CA880 ,  4J246GA01 ,  4J246GC02 ,  4J246GC12 ,  4J246HA29 ,  4J246HA62
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM