特許
J-GLOBAL ID：201403089443823553
近接場光を用いたエッチング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安彦 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-156812
公開番号（公開出願番号）：特開2014-022411
出願日： 2012年07月12日
公開日（公表日）： 2014年02月03日
要約：
【課題】基板積層体の表面に存在するナノオーダーの不要な凸部を、その凸部の材料に応じて選択的にエッチングし平坦化することを目的とする。【解決手段】チャンバ11内に基板積層体10を載置するとともに、チャンバ11内に反応性ガスを導入する。凸部21に近接場光を発生しうる波長の光を、基板積層体10に照射する。光の照射により凸部21の局所領域に選択的に発生した近接場光に基づく非共鳴過程を経て、凸部の素材に選択的に反応する反応性ガスの活性種を生成させる。そして、生成された活性種と凸部21とを化学反応させて反応性生物を生成させることにより、凸部21をその素材に基づき選択的に除去する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板と、前記基板の表面に積層された前記基板と異なる材料よりなる薄膜と、を有する基板積層体の表面において、前記薄膜により形成されたナノオーダーの凸部を前記凸部の素材に基づき選択的に除去する表面平坦化方法であって、
チャンバ内に前記基板積層体を載置する載置工程と、
前記チャンバ内に、活性種となった場合に前記凸部の素材に基づき前記凸部と選択的に反応する反応性ガスを導入する導入工程と、
前記凸部に近接場光を発生しうる波長の光を、前記基板積層体に照射する照射工程と、
前記光の照射により前記凸部の局所領域に発生した近接場光に基づく非共鳴過程を経て、前記反応性ガスを解離させて前記活性種を生成させる活性種生成工程と、
生成された前記活性種と前記凸部とを化学反応させて反応性生物を生成させることにより、前記凸部を前記凸部の素材に基づき選択的に除去する除去工程と、
を有することを特徴とする表面平坦化方法。
IPC (2件)：
H01L 21/302
, H01L 21/027
H01L21/302 201Z
, H01L21/30 502D
5F004AA09
, 5F004AA11
, 5F004BA19
, 5F004BB03
, 5F004BB26
, 5F004EA34
, 5F146AA28
