特許

J-GLOBAL ID：201403089866157991

グラフェン製造用圧延銅箔、及びグラフェンの製造方法

発明者： 千葉 喜寛
出願人/特許権者： JX日鉱日石金属株式会社
代理人 (3件)： 赤尾 謙一郎 ,  下田 昭 ,  栗原 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-180590
公開番号（公開出願番号）：特開2014-037577
出願日： 2012年08月16日
公開日（公表日）： 2014年02月27日
要約：

【課題】大面積のグラフェンを低コストで生産可能なグラフェン製造用圧延銅箔及びそれを用いたグラフェンの製造方法を提供する。【解決手段】{111}正極点図においてα=15度、β=90度±2度における検出強度の最大値ICと、α=70度、β=0度±2度における検出強度の最大値IAとの比(IC/IA)が1未満、かつ、α=15度、β=270度±2度における検出強度の最大値IDと、α=70度、β=180度±2度における検出強度の最大値IBとの比(ID/IB)が1未満であるグラフェン製造用圧延銅箔である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

{111}正極点図においてα=15度、β=90度±2度における検出強度の最大値ICと、α=70度、β=0度±2度における検出強度の最大値IAとの比(IC/IA)が1未満、かつ、α=15度、β=270度±2度における検出強度の最大値IDと、α=70度、β=180度±2度における検出強度の最大値IBとの比(ID/IB)が1未満であるグラフェン製造用圧延銅箔。

IPC (5件)：

C22C 9/02 ,  C01B 31/02 ,  C22C 9/01 ,  C22C 9/00 ,  H01B 13/00

FI (5件)：

C22C9/02 ,  C01B31/02 101Z ,  C22C9/01 ,  C22C9/00 ,  H01B13/00 Z

Fターム (18件)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC20B ,  4G146AD22 ,  4G146AD23 ,  4G146BA12 ,  4G146BB23 ,  4G146BC25 ,  4G146BC27 ,  4G146BC34B ,  4G146BC37B ,  4G146BC38B ,  5H026AA02 ,  5H026CX04 ,  5H026EE02 ,  5H026EE05 ,  5H026HH03 ,  5H026HH05