特許
J-GLOBAL ID：201403093688903053
インプリントモールド用マスクブランク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-256752
公開番号（公開出願番号）：特開2014-082511
出願日： 2013年12月12日
公開日（公表日）： 2014年05月08日
要約：
【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができるマスクブランクを提供する。【解決手段】透光性基板1と該基板の表面に接して形成された薄膜2とを有するマスクブランク10であって、上記薄膜2は、ケイ素(Si)を含有する材料、またはタンタル(Ta)を含有する材料で形成された上層4と、ハフニウム(Hf)およびジルコニウム(Zr)のうちの少なくとも一方を含有し、かつ酸素を実質的に含有しない材料で形成された下層3との積層膜からなる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透光性基板上に、パターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクであって、
前記薄膜は、前記透光性基板の表面に接して形成されており、少なくとも上層および下層の積層膜からなり、
前記上層は、ケイ素(Si)を含有する材料、またはタンタル(Ta)を含有する材料で形成され、
前記下層は、ハフニウム(Hf)およびジルコニウム(Zr)のうちの少なくとも一方を含有し、かつ酸素を実質的に含有しない材料で形成されていることを特徴とするマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 B
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F146AA32
