特許

J-GLOBAL ID：201403094176322179

堆積反応炉のための装置および方法

発明者： リンドフォース スヴェン ,  ソイニネン ペッカ ジェイ
出願人/特許権者： ピコサン オーワイ
代理人 (1件)： 川守田 光紀
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-075714
公開番号（公開出願番号）：特開2013-211551
特許番号：特許第5606571号
出願日： 2013年04月01日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 自己飽和表面反応の繰り返しによって、堆積反応炉内の加熱された基板上に材料を堆積させるように構成された前駆体ソースと、 前記基板を収容する前記反応炉に備えられた反応室への前記前駆体ソースからの前駆体蒸気の供給を制御するように構成される、前記前駆体ソースに搭載された第1のパルス送出弁と、 を備える装置であって、前記装置は、前記前駆体ソースに備えられる前駆体カートリッジに不活性ガスを流し込むように構成され、それによって前記前駆体カートリッジの圧力を上昇させ、前駆体蒸気と不活性ガスとの混合物の次の流れが前記反応室へと流れ易くなるようにする、 装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  C23C 16/455 ( 200 6.01) ,  C23C 16/448 ( 200 6.01) ,  H01L 21/316 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/31 B ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/455 ,  C23C 16/448 ,  H01L 21/316 X