特許
J-GLOBAL ID:201403094420300000
縦型熱処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-209591
公開番号(公開出願番号):特開2014-063959
出願日: 2012年09月24日
公開日(公表日): 2014年04月10日
要約:
【課題】縦型の反応容器内にて、基板保持具に棚状に保持された基板に対して互いに隣接する原料ガスノズル及びオゾンガスノズルから夫々原料ガス及び酸化用ガスを交互に供給して成膜処理を行うにあたり、原料ガスノズルの内部における原料ガスの熱分解を抑えること。【解決手段】各々のガスノズル51a、51bについて、第1のガス吐出孔52よりも開口率の大きい第2のガス吐出孔52をダミー基板領域2に対向する領域に各々形成する。また、オゾンガスノズル51bについては、ダミー基板領域2よりも上方側の領域に圧抜き用の第3のガス吐出孔52を形成すると共に、当該オゾンガスノズル51bの天板にガス吐出孔52を形成している。【選択図】図5
請求項(抜粋):
基板が棚状に保持された基板保持具を、加熱部により囲まれた縦型の反応容器内に搬入すると共に、原料ガスとオゾンガスとを反応容器内に供給して薄膜を得る縦型熱処理装置において、
複数の製品基板が棚状に保持される製品基板領域と、この製品基板領域の上方側にて複数のダミー基板が棚状に保持されるダミー基板領域と、が割り当てられる基板保持具と、
前記反応容器内にて上下方向に伸びるように設けられると共に、前記製品基板領域に対応する領域に形成されたガス吐出孔を有する、原料ガスを供給するための原料ガスノズルと、
前記反応容器内にて前記原料ガスノズルに隣接して上下方向に伸びるように設けられると共に、前記製品基板領域に対応する領域に形成されたガス吐出孔を有する、オゾンガスを含む酸化用ガスを供給するためのオゾンガスノズルと、
前記反応容器内を原料ガスの熱分解温度以上の温度に加熱するように制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記原料ガスノズル及び前記オゾンガスノズルの各々のガスノズルは、
(A)前記ダミー基板領域に対応する領域にガス吐出孔が形成されると共に、当該対応する領域におけるガス吐出孔全体の開口率は、前記製品基板領域に対応する領域におけるガス吐出孔全体の開口率よりも大きくなるように設定されている構成と、
(B)前記ダミー基板領域に対応する領域よりも上方側に、当該ガスノズル内の圧力を低くするために圧抜き用のガス吐出孔が形成されている構成と、の少なくとも一方の構成を備えていることを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/31 B
, H01L21/316 X
Fターム (23件):
5F045AA15
, 5F045AB31
, 5F045AC07
, 5F045AC11
, 5F045BB01
, 5F045DP19
, 5F045EE17
, 5F045EE19
, 5F045EE20
, 5F045EF03
, 5F045EF08
, 5F045EF09
, 5F058BA06
, 5F058BA11
, 5F058BC03
, 5F058BF02
, 5F058BF27
, 5F058BF29
, 5F058BG01
, 5F058BG02
, 5F058BG03
, 5F058BG04
, 5F058BJ04
引用特許:
前のページに戻る