特許

J-GLOBAL ID：201403095107434646

粗化処理銅箔の製造方法及び粗化処理銅箔

発明者： 堀口 賢 ,  多賀 勝俊 ,  小泉 良一
出願人/特許権者： 株式会社SHカッパープロダクツ
代理人 (1件)： 沖川 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-017174
公開番号（公開出願番号）：特開2014-148707
出願日： 2013年01月31日
公開日（公表日）： 2014年08月21日
要約：

【課題】粗化処理における、めっき金属の析出効率を向上させる。【解決手段】銅素地上に厚さが、0.5g/m2より大きく、1.8g/m2以下の下地めっき層を形成する下地めっき層形成工程と、めっき液のレイノルズ数が、1.7×105以上2.5×105以下となるように銅素地の速度を調整してめっき液中を走行させ、下地めっき層上に粗化粒子を析出させることで、粗化めっき層を形成する粗化めっき層形成工程と、を有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

銅素地上に厚さが0.5g/m2より大きく1.8g/m2以下の下地めっき層を形成する下地めっき層形成工程と、 めっき液のレイノルズ数が1.7×105以上2.5×105以下となるように前記銅素地の速度を調整して前記めっき液中を走行させ、前記下地めっき層上に粗化粒子を析出させることで粗化めっき層を形成する粗化めっき層形成工程と、を有する ことを特徴とする粗化処理銅箔の製造方法。

IPC (2件)：

C25D 7/06 ,  H05K 1/09

FI (2件)：

C25D7/06 A ,  H05K1/09 C

Fターム (22件)：

4E351AA01 ,  4E351AA17 ,  4E351BB01 ,  4E351BB30 ,  4E351BB33 ,  4E351BB35 ,  4E351CC06 ,  4E351DD04 ,  4E351DD19 ,  4E351DD56 ,  4E351GG20 ,  4K024AA03 ,  4K024AA09 ,  4K024AA14 ,  4K024AB02 ,  4K024BA09 ,  4K024BB11 ,  4K024BC02 ,  4K024CA06 ,  4K024CA16 ,  4K024CB03 ,  4K024GA16