特許
J-GLOBAL ID：201403095361049566
液中プラズマ処理装置及び液中プラズマ処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-054705
公開番号（公開出願番号）：特開2014-180588
出願日： 2013年03月18日
公開日（公表日）： 2014年09月29日
要約：
【課題】 気泡の発生状態を維持可能にして、巨大粒子の生起及びナノ粒子への混入を防止し、ナノ粒子の品質を向上させる。【解決手段】 液体中でプラズマを発生させて所定の処理を行う液中プラズマ処理装置1であって、液体が収められた容器30と、パルス波を出力するパルス波出力手段10と、一部が液体に浸漬するとともに、パルス波出力手段10から出力されたパルス波を液体に与える電極42とを備え、パルス波の周波数が、加熱により液体が気化して気泡が発生している状態を維持可能な周波数である。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
液体中でプラズマを発生させて所定の処理を行う液中プラズマ処理装置であって、
前記液体が収められた容器と、
パルス波を出力するパルス波出力手段と、
一部が前記液体に浸漬するとともに、前記パルス波出力手段から出力された前記パルス波を前記液体に与える電極とを備え、
前記パルス波の周波数が、加熱により前記液体が気化して気泡が発生している状態を維持可能な周波数である
ことを特徴とする液中プラズマ処理装置。
IPC (5件)：
B01J 19/08
, B22F 9/14
, B82Y 30/00
, H05H 1/24
, B82Y 40/00
B01J19/08 E
, B22F9/14 Z
, B01J19/08 K
, B82Y30/00
, H05H1/24
, B82Y40/00
4G075AA27
, 4G075AA63
, 4G075AA65
, 4G075BA10
, 4G075CA47
, 4G075DA01
, 4G075DA18
, 4G075EB41
, 4G075EC21
, 4G075FC06
, 4K017AA03
, 4K017BB02
, 4K017CA08
, 4K017DA01
, 4K017EF00
