特許
J-GLOBAL ID：201403095810259597
CMP用研磨液、貯蔵液及び研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長谷川 芳樹
, 清水 義憲
, 酒巻 順一郎
, 古下 智也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-080563
公開番号（公開出願番号）：特開2014-201699
出願日： 2013年04月08日
公開日（公表日）： 2014年10月27日
要約：
【課題】アルミニウム系材料を良好な研磨速度で平滑に研磨できると共に、保管安定性に優れたCMP用研磨液を提供する。【解決手段】アルミニウム系材料を含む基体を研磨するためのCMP用研磨液であって、砥粒と、ベンゾトリアゾール及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種のベンゾトリアゾール化合物と、酸化剤と、ジエチレントリアミン五酢酸及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも一種と、液状媒体と、を含有する、CMP用研磨液。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
アルミニウム系材料を含む基体を研磨するためのCMP用研磨液であって、
砥粒と、
ベンゾトリアゾール及びその誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種のベンゾトリアゾール化合物と、
酸化剤と、
ジエチレントリアミン五酢酸及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも一種と、
液状媒体と、を含有する、CMP用研磨液。
IPC (3件)：
C09K 3/14
, B24B 37/00
, C09G 1/02
C09K3/14 550Z
, B24B37/00 H
, C09K3/14 550C
, C09G1/02
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058DA02
, 3C058DA12
