特許
J-GLOBAL ID:201403096470893772

テトラヒドロフラン化合物の製造方法、並びに水素化触媒及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  石坂 泰紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-190048
公開番号(公開出願番号):特開2014-047149
出願日: 2012年08月30日
公開日(公表日): 2014年03月17日
要約:
【課題】低温下においても、高い反応速度で、高収率且つ高選択的にフラン化合物からテトラヒドロフラン化合物を製造することが可能な製造方法の提供。【解決手段】パラジウム化合物と、構成元素として周期表第5族〜9族に属する金属の少なくとも1種を有する金属化合物と、を混合し還元処理して得た触媒の存在下、特定の置換基を有するフラン化合物と水素とを接触させて、一般式(2)のテトラヒドロフラン化合物を得る工程を有する、テトラヒドロフラン化合物の製造方法。[式(2)中、R1bは水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基又はヒドロキシメチル基を、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数1〜5のアルキル基を示す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
パラジウム化合物と、構成元素として周期表第5族〜9族に属する金属の少なくとも1種を有する金属化合物と、を混合し還元処理して得た触媒の存在下、一般式(1)のフラン化合物と水素とを接触させて、一般式(2)のテトラヒドロフラン化合物を得る工程を有する、テトラヒドロフラン化合物の製造方法。
IPC (6件):
C07D 307/12 ,  B01J 23/652 ,  B01J 23/44 ,  B01J 23/46 ,  B01J 23/656 ,  B01J 37/18
FI (8件):
C07D307/12 ,  B01J23/64 103Z ,  B01J23/44 Z ,  B01J23/46 311Z ,  B01J23/64 104Z ,  B01J37/18 ,  B01J23/46 301Z ,  B01J23/46 Z
Fターム (29件):
4C037CA06 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA03A ,  4G169BA07A ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC53A ,  4G169BC57A ,  4G169BC59B ,  4G169BC60B ,  4G169BC61A ,  4G169BC64B ,  4G169BC65A ,  4G169BC69A ,  4G169BC70B ,  4G169BC71B ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC74B ,  4G169CB02 ,  4G169CB65 ,  4G169EA01Y ,  4G169FB44
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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