特許
J-GLOBAL ID：201403097407733745
単層膜及びこれからなる親水性材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人SSINPAT
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-227792
公開番号（公開出願番号）：特開2014-080471
出願日： 2012年10月15日
公開日（公表日）： 2014年05月08日
要約：
【課題】防曇性、防汚性(セルフクリーニング性)及び帯電防止性(ほこり付着防止性)に優れ、更に耐擦傷性等にも優れる、高い親水性と表面硬度を有する単層膜、該単層膜を含んでなる防曇材料、防汚材料及び帯電防止材料、更に基材表面にこの単層膜を設けてなる積層体を熱重合により製造する方法を提供する。【解決手段】特定の化合物(I)と化合物(II)とを化合物(II)に対する化合物(I)のモル比(I)/(II)が1/0.05〜1/1000の範囲となるように含み、かつ1時間半減温度T1/2が40〜100°Cの範囲にある過酸化物(III)と溶剤(IV)とを含む組成物を作製し、該組成物からなる塗膜を基材の少なくとも片面に形成した後、該塗膜を熱により共重合させて、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基から選ばれる少なくとも1種のアニオン性親水基が、外表面のアニオン濃度(Sa)と基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度(Da)とのアニオン濃度比(Sa/Da)が1.1以上となるように分布する単層膜を形成した積層体を作成する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される化合物(I)と2以上の(メタ)アクリロイル基を有する(但し、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基を有さない)化合物(II)とを化合物(II)に対する化合物(I)のモル比(I)/(II)が1/0.05〜1/1000の範囲となるように含み、かつ1時間半減温度T1/2が40〜100°Cの範囲にある過酸化物(III)と溶剤(IV)とを含む組成物を作製する第一工程、
該組成物からなる塗膜を基材の少なくとも片面に形成する第二工程、
該塗膜を熱により共重合させて、スルホン酸基、カルボキシル基及びリン酸基から選ばれる少なくとも1種のアニオン性親水基が、外表面のアニオン濃度(Sa)と基材に接する内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度(Da)とのアニオン濃度比(Sa/Da)が1.1以上となるように分布する単層膜を形成する第三工程を含む、積層体の製造方法。
[X]s[M1]l[M2]m (1)
(上記式(1)中、sは1又は2を表し、l及びmはs=l+2mを満たす整数を表す。M1は、水素イオン、アンモニウムイオン、及びアルカリ金属イオンから選ばれる少なくとも1つの1価カチオンであり、M2はアルカリ土類金属イオンから選ばれる少なくとも1つの2価カチオンである。Xは、下記一般式(1-1)〜(1-4)で示される基から選ばれる少なくとも1つの1価アニオンである。)
IPC (5件)：
C08J 7/04
, C08F 220/38
, C08F 230/02
, C08F 220/10
, C08F 220/26
C08J7/04 A
, C08F220/38
, C08F230/02
, C08F220/10
, C08F220/26
4F006AA36
, 4F006AB43
, 4F006AB55
, 4F006BA07
, 4F006BA10
, 4F006BA11
, 4J100AL08Q
, 4J100AL66Q
, 4J100AL67P
, 4J100BA02P
, 4J100BA03P
, 4J100BA07P
, 4J100BA08P
, 4J100BA09P
, 4J100BA15P
, 4J100BA16Q
, 4J100BA21P
, 4J100BA38P
, 4J100BA51P
, 4J100BA56Q
, 4J100BA64Q
, 4J100BA65P
, 4J100BC04P
, 4J100BC07P
, 4J100BC12P
, 4J100BC43P
, 4J100BC45P
, 4J100BC49P
, 4J100BC58P
, 4J100BC59P
, 4J100BC75P
, 4J100JA21
