炭酸ガスレーザの励起媒質ガス、炭酸ガスレーザ装置、炭酸ガスレーザを用いたマーキング装置、炭酸ガスレーザ発生方法、炭酸ガスレーザを用いたマーキング方法、及び炭酸ガスレーザ光

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長門侃二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-257717
公開番号（公開出願番号）：特開2014-107349
出願日： 2012年11月26日
公開日（公表日）： 2014年06月09日
要約：

【課題】尖頭パルスの照射エネルギーとして10mJを超えるような十分なエネルギーを得られると同時に、パルステールを無くした短パルスレーザを発生させる炭酸ガスレーザ装置を実現すること。【解決手段】炭酸ガスレーザの励起媒質ガスの混合比を、容積比で、炭酸ガス:窒素:ヘリウム=20:1:5〜40で、かつ、窒素分圧(濃度)が2.4%を中心として0%を超えて5.9%未満の範囲の割合で混合し、パルステールが無く、尖頭パルスの照射エネルギーが10mJ以上の短パルスレーザを発生させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

炭酸ガス、窒素、ヘリウムを主成分として混合する炭酸ガスレーザの励起媒質ガスであって、ガスの混合比を、容積比で、炭酸ガス:窒素:ヘリウム=20:1:5〜40で、かつ、窒素分圧(濃度)が2.4%を中心として0%を超えて5.9%未満の範囲の割合で混合したことを特徴とする炭酸ガスレーザの励起媒質ガス。

IPC (3件)：

H01S 3/223 , H01S 3/134 , B23K 26/00

FI (4件)：

H01S3/223 Z , H01S3/134 , B23K26/00 B , B23K26/00 N

Fターム (12件)：

4E068AB00 , 4E068CA02 , 4E068CA03 , 4E068CA17 , 4E068CE06 , 4E068CK01 , 4E068DB13 , 5F071AA05 , 5F071EE01 , 5F071GG04 , 5F071HH07 , 5F071JJ04

引用特許：

審査官引用 (7件)

ガスレーザ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-093179 出願人：株式会社小松製作所
特開平1-192183
ガラスマーキング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-114976 出願人：株式会社サタス

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