特許
J-GLOBAL ID：201403097954869171
フェノール及び/又はシクロヘキサノンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 箱田 篤
, 浅井 賢治
, 山崎 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-263572
公開番号（公開出願番号）：特開2014-139169
出願日： 2013年12月20日
公開日（公表日）： 2014年07月31日
要約：
【課題】ベンゼンからのフェノール及び/又はシクロヘキサノンの製造のための有効かつ経済的なシクロヘキシルベンゼンをベースとする方法の提供。【解決手段】(a)ベンゼン及び水素をヒドロアルキル化条件下で第一の触媒と接触させてシクロヘキシルベンゼン、シクロヘキサン、及び未反応のベンゼンを含む第一の流出物流を生成し、(b)前記第一の流出物流の少なくとも一部を第一の分離系に供給して前記第一の流出物流部分をシクロヘキシルベンゼンに富む流れ、シクロヘキサン及びベンゼンを含む生成物流に分け、(e)前記シクロヘキシルベンゼンに富む流れの少なくとも一部を第三の触媒の存在下、酸化条件下で酸素含有ガスと接触させてシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドを生成し、(f)該シクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドをフェノール及びシクロヘキサノン変換するフェノール及びシクロヘキサノンの製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
フェノール及び/又はシクロヘキサノンの製造方法であって、
(a) ベンゼン及び水素をヒドロアルキル化条件下で第一の触媒と接触させてシクロヘキシルベンゼン、シクロヘキサン、及び未反応のベンゼンを含む第一の流出物流を生成し、
(b) 前記第一の流出物流の少なくとも一部を第一の分離系に供給して前記第一の流出物流部分をシクロヘキシルベンゼンに富む流れ、シクロヘキサン及びベンゼンを含むC6生成物流に分け、
(b1) 前記供給工程(b)における前記C6生成物流をシクロヘキサンに富む流れ、及びベンゼンに富む流れに分け、
(b2) ベンゼンに富む流れを前記接触工程(a)に循環し、
(c) 前記シクロヘキサンに富む流れの少なくとも一部と同時供給水素ガスを脱水素化条件下で第二の触媒と接触させてシクロヘキサンの少なくとも一部をベンゼンに変換し、かつベンゼン及び水素を含む第二の流出物流を生成し、
(d) 第二の流出物流の少なくとも一部を前記接触工程(a)に循環し、
(e) 前記シクロヘキシルベンゼンに富む流れの少なくとも一部を第三の触媒の存在下、酸化条件下で酸素含有ガスと接触させて前記シクロヘキシルベンゼンに富む流れ中のシクロヘキシルベンゼンを酸化してシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドを生成し、そして
(f) (e)からのシクロヘキシルベンゼンヒドロペルオキシドを変換してフェノール及びシクロヘキサノンを製造することを特徴とする上記製造方法。
IPC (5件)：
C07C 27/00
, C07C 39/04
, C07C 37/08
, C07C 49/403
, C07C 45/53
C07C27/00 310
, C07C39/04
, C07C37/08
, C07C49/403 A
, C07C45/53
4H006AA02
, 4H006AC42
, 4H006AC44
, 4H006BD33
, 4H006BD84
