特許
J-GLOBAL ID:201403098751874648

ホログラムオーバーレイ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 廣瀬 一 ,  宮坂 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-102009
公開番号(公開出願番号):特開2014-222309
出願日: 2013年05月14日
公開日(公表日): 2014年11月27日
要約:
【課題】熱可塑性樹脂の被転写基材から発生するガスの影響を回避するホログラムオーバーレイを提供することにある。【解決手段】基材11と、この基材の一方の面に選択的に形成されるアンカー層11aと、このアンカー層を含む基材の一方の面に積層される光を回折するホログラム及び回折格子の少なくとも一種類を含む回折構造形成層12と、この回折構造形成層の上面に順次積層される無機反射層13及びアンカー層よりも接着力の弱い接着層14とを備え、熱可塑性樹脂の被転写基材の上面に前記基材が上側となるように配置して熱転写する際、当該基材から回折構造形成層と無機反射層と接着層とが剥離されて被転写基材に転写される剥離部111と、アンカー層を介して回折構造形成層と無機反射層と接着層とが基材に残存する微小な密着部112とを有するホログラムオーバーレイである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
熱可塑性樹脂の被転写基材への熱転写に用いるホログラムオーバーレイにおいて、 フィルム又はシート状の基材と、この基材の一方の面に所要の間隔をもって形成されるアンカー層と、このアンカー層を含む前記基材の一方の面に積層される光を回折するホログラム及び回折格子の少なくとも一種類を含む回折構造形成層と、この回折構造形成層の上面に順次積層される無機反射層及び前記アンカー層よりも接着力の弱い接着層とを備え、 前記被転写基材の上面に前記接着層の面が対峙され、かつ前記基材が上側となるように配置して熱転写する際、前記基材から前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが剥離されて前記被転写基材に転写される剥離部と、前記アンカー層を介して前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが前記基材に残存する密着部とを有することを特徴とするホログラムオーバーレイ。
IPC (3件):
G02B 5/32 ,  G03H 1/02 ,  G03H 1/18
FI (3件):
G02B5/32 ,  G03H1/02 ,  G03H1/18
Fターム (8件):
2H249CA05 ,  2H249CA15 ,  2H249CA22 ,  2K008AA13 ,  2K008DD03 ,  2K008EE04 ,  2K008FF11 ,  2K008GG05
引用特許:
審査官引用 (2件)

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