特許

J-GLOBAL ID：201403098915071045

マスクブランクおよび転写用マスク

発明者： 橋本 雅広 ,  岩下 浩之 ,  大久保 靖 ,  野澤 順
出願人/特許権者： HOYA株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-232918
公開番号（公開出願番号）：特開2014-059575
特許番号：特許第5602930号
出願日： 2013年11月11日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ArF露光光が適用される転写用マスクを作製するために用いられるマスクブランクであって、 透光性基板上に形成される遮光層および表面反射防止層の積層構造からなる遮光膜と、前記遮光膜の上方に形成される補助遮光膜とを備え、 前記遮光膜は、遷移金属シリサイドを含有する材料からなり、膜厚が40nm以下、かつ露光光に対する光学濃度が2.0以上、2.7以下であり、 前記遮光膜と補助遮光膜の積層構造における露光光に対する光学濃度が2.8以上であり、 前記補助遮光膜は、補助遮光層と、前記遮光膜および前記補助遮光層の間に設けられるエッチングストッパ兼マスク層とからなり、 前記エッチングストッパ兼マスク層は、クロムに、窒素、酸素のうち少なくともいずれかの元素を含む材料からなり、 前記補助遮光層は、遷移金属シリサイドを含有する材料からなる、 ことを特徴とするマスクブランク。

IPC (4件)：

G03F 1/50 ( 201 2.01) ,  G03F 1/54 ( 201 2.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 1/46 ( 201 2.01)

FI (4件)：

G03F 1/50 ,  G03F 1/54 ,  H01L 21/30 502 P ,  G03F 1/46