特許

J-GLOBAL ID：201403099226572963

印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法

発明者： 仁科 秀樹
出願人/特許権者： 株式会社ボンマーク
代理人 (3件)： 高田 守 ,  高橋 英樹 ,  小澤 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-031880
公開番号（公開出願番号）：特開2014-162008
出願日： 2013年02月21日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
要約：

【課題】金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ni-P皮膜又はNi-W皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施すことにより、耐酸性を向上させた印刷用サスペンドメタルマスクを得る。【解決手段】版枠3と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュ1を有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターン5bが設けられたベースメタル5とを備えたものにおいて、金属製メッシュ1とベースメタル5の全面に、Ni-P皮膜又はNi-W皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜15を施したものである。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

版枠と、 前記版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、 前記金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクにおいて、 前記金属製メッシュと前記ベースメタルの全面に、Ni-P皮膜又はNi-W皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施したことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスク。

IPC (1件)：

B41N 1/24

FI (1件)：

B41N1/24

Fターム (5件)：

2H114AB13 ,  2H114BA01 ,  2H114DA04 ,  2H114EA02 ,  2H114GA11