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J-GLOBAL ID：201502200378100711   整理番号：15A0780796

火花放電アノード酸化によるZrO₂/MTiO₃(M=Ca,Sr,Ba)マイクロパターニング膜の作製

Patterned ZrO₂/MTiO₃ (M=Ca, Sr, Ba) films in micrometer scale prepared by anodic oxidation of titanium under spark discharge

著者 (2件)： 細岡芽衣 (近畿大 大学院総合理工学研究科) ,  岩崎光伸 (近畿大 大学院総合理工学研究科)
資料名： 材料技術  (Material Technology)
巻： 33  号： 3  ページ： 43-49  発行年： 2015年05月25日 
JST資料番号： Y0644A  ISSN： 0289-7709  CODEN： MTECFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 無機酸化物薄膜の超微細加工が電子デバイスの小型化・高性能化に伴い強く求められている。ミクロンオーダの規則的周期構造を有する異種金属酸化物の例として,ZrO₂/MTiO₃(M=Ca,Sr,Ba)からなる規則的周期構造薄膜を光感応性パターニング法と火花放電アノード酸化を併用して作製した。チタン板上にあらかじめZrO₂ゲル膜をパターニング,焼成した後,0.1~0.MのM(OH)₂(M=Ca,Sr,Ba)浴で火花放電下パルスアノード酸化を行うと,TiO₂膜上のみにアノード酸化が進行し,MTiO₃が形成した。ゼータ電位測定からパターン周期が表面特性に影響することが分かった。

シソーラス用語： パターン形成 ,  微細加工 ,  アノード酸化 ,  酸化ジルコニウム ,  火花放電 ,  *酸化物 ,  *薄膜 ,  チタン酸カルシウム ,  チタン酸ストロンチウム ,  チタン酸バリウム ,  立方晶系 ,  ゲル ,  紫外線照射 ,  エッチング ,  焼成 ,  深さ分布
準シソーラス用語： マイクロパターニング ,  超微細加工 ,  *酸化物薄膜

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (9件)：

• Masuda, Y. Sugiyama, T. Lin, H. Seo, W. S.; Koumoto, K. Thin, Solid Films, 382,153 (2001).
• 玉川泰裕,野間直樹,堀川袷志,岩崎光伸,表面技術,60(12),811(2009).
• N. Noma, S. Yamazaki, N. Tohge, J. Sol-Gel Sci. Technol., 31(1/2/3),253 (2004).
• 工藤浩棋,堀川袷志,岩崎光伸,伊藤征司郎,材料技術,第27巻2号,pp.54-59(2009).
• 工藤浩棋,岩崎光伸,伊藤征司郎,表面技術,59(5),340(2008).

タイトルに関連する用語 (7件)： 火花放電 ,  アノード酸化 ,  ZrO2 ,  Sr ,  Ba ,  マイクロパターニング ,  作製