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J-GLOBAL ID：201502201126779165   整理番号：15A0988661

ZnO/Cu/ZnO透明導電膜の特性に及ぼすアニーリングの影響【Powered by NICT】

Effects of Annealing on Properties of ZnO/Cu/ZnO Transparent Conductive Film

著者 (6件)： Li Wenying (School of Materials Sci. and Engineering,Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai) ,  Zhong Jian (National Engineering Res. Center for Nanotechnology, Shanghai) ,  Zhang Ke (National Engineering Res. Center for Nanotechnology, Shanghai) ,  Wang Yuanyuan (National Engineering Res. Center for Nanotechnology, Shanghai) ,  Yin Guilin (National Engineering Res. Center for Nanotechnology, Shanghai) ,  He Dannong (School of Materials Sci. and Engineering,Shanghai Jiao Tong University; National Engineering Res. Center for ...)
資料名： Cailiao Gongcheng  (Cailiao Gongcheng)
巻： 43  号： 1  ページ： 44-48  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2125A  ISSN： 1001-4381  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ZnO/Cu/ZnO透明導電性薄膜を室温でマグネトロンスパッタリング蒸着により調製した。ポストアニーリングの間の関係,構造,モルフォロジー,多層膜の電気的および光学的性質をX線回折(XRD),原子間力顕微鏡(A FM),走査電子顕微鏡(SEM),Hall効果測定システム及びUV-Vis分光光度計で調べた。結果は,ZnO膜は焼なまし前と後の(002)優先配向を有することを示した。アニーリング温度の上昇と共に,結晶化,結晶粒サイズと表面粗さが増加した。抵抗率は最初に減少し,その後増加したが,光透過率とバンドギャップエネルギーは最初増加し,それから減少した。150°CでアニールしたZnO/Cu/ZnO膜は可視域で90.5%の最も高い透過率,1.28×10~(-4)Ωcmの抵抗率とキャリア濃度4.10×10~(21)cm~(-3)の最良の性能を有した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： マグネトロン ,  電気抵抗率 ,  *焼なまし ,  透過率 ,  スパッタ蒸着 ,  キャリア密度 ,  結晶粒径 ,  Hall効果 ,  モルフォロジー ,  *透明導電膜
準シソーラス用語： バンドギャップエネルギー ,  光透過率 ,  アニーリング温度 ,  紫外可視分光光度計 ,  ポストアニーリング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： ZnO ,  Cu ,  透明導電膜 ,  アニーリング