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J-GLOBAL ID:201502201945234585   整理番号:15A1169147

ゾル-ゲル調製された(K,Na)NbNO3薄膜の構造的及びナノ機械的特性

Structural and nanomechanical properties of sol-gel prepared (K, Na)NbO3 thin films
著者 (4件):
資料名:
巻: 47  号: 11  ページ: 1063-1071  発行年: 2015年11月 
JST資料番号: E0709A  ISSN: 0142-2421  CODEN: SIANDQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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ペロブスカイト(K,Na)NbNO3(KNN)薄膜(~100nm)をPt/SiO2/Si基板上にゾル-ゲル/スピンコーティング過程により調製し,650°Cにおいてアニールした。KNN膜の構造的特性はX線回折分析(XRD),Raman分光及び走査電子,透過電子及び原子間力顕微鏡(SEM,TEM及びAFM)分析により確かめた。膜における単斜晶対称の非化学量論的組成のK0.65Na0.35NbNO3の純粋なペロブスカイト構造が示された。粗さ(~6.9nm)のKNNの一様に均一なマイクロ構造は球状粒子(~50~90nm)を含んだ。KNN膜の機械的特性をキャラクタライズするためナノ押し込技術を用いた。Pt,SiO2,及びKNN薄膜の弾性率及び硬度はKNN/Pt/SiO2/Si膜/基板系のそれらの複合材値から計算した。KNN膜の弾性率及び硬度(71及び4.5GPa)はSiO2(100及び7.5GPa)と比べて低かった。Pt膜(~30nm)は複合材弾性率に影響しなかったがKNN膜の硬度に効果を有した。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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その他の無機化合物の薄膜  ,  塩 

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