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J-GLOBAL ID：201502202142735572   整理番号：15A0294352

ディップペンナノ変換リソグラフィーによる3D高分子ブラシの構築:超微細と高速パターニングのための分子変換の理解

Construction of 3D Polymer Brushes by Dip-Pen Nanodisplacement Lithography: Understanding the Molecular Displacement for Ultrafine and High-Speed Patterning

著者 (5件)： CHEN Chaojian (Advanced Res. Centre for Fashion and Textiles, The Hong Kong Polytechnic, Univ. Shenzhen Res. Inst., Shenzhen ...) ,  ZHOU Xuechang ,  XIE Zhuang ,  GAO Tingting ,  ZHENG Zijian
資料名： Small  (Small)
巻： 11  号： 5  ページ： 613-621  発行年： 2015年02月 
JST資料番号： W2348A  ISSN： 1613-6810  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ディップペンナノ変換リソグラフィー(DNL)は環境条件下の超微細3D高分子ブラシを作成するために用いる事ができる多目的走査プローブベースの手法である。多くの基礎研究と応用が3D構造物の大面積を必要とする。しかしながら,加工の生産性と均一性は満足からなお程遠い。本研究では,DNLの分子変換の機構をz伸張と接触時間の相乗効果を系統的に検討する事によって明らかにする。分子変換の綿密な理解は同時に3D構造の超微細制御と高速パターニングをうまく達成できる。特に,<5%の垂直および横方向のサイズ変動と技術現状より200~倍速いパターニング速度で大面積(1.3mm×1.3mm)に任意の3D高分子ブラシを調製することができる。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *三次元 ,  *高分子ブラシ ,  *パターン形成 ,  走査型プローブ顕微鏡 ,  *変換 ,  延伸 ,  接触時間 ,  相乗作用 ,  微細構造 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  原子間力顕微鏡 ,  原子移動ラジカル重合 ,  重合 ,  均一性
準シソーラス用語： *ディップペンナノリソグラフィー ,  *ナノパターン形成 ,  超微細構造 ,  表面開始重合 ,  *分子変換

分類 (2件)： 単独重合  (CG04020S) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (1件)： 16-メルカプトヘキサデカン酸

タイトルに関連する用語 (8件)： リソグラフィー ,  3D ,  高分子ブラシ ,  構築 ,  超微細 ,  パターニング ,  分子 ,  理解