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J-GLOBAL ID：201502202264923698   整理番号：15A0520655

Cu(111)表面のセリウムおよび二酸化セリウムの成長のLEISおよびXPS検討

LEIS and XPS investigation into the growth of cerium and cerium dioxide on Cu(111)

著者 (4件)： VARI G. (Dep. of Applied and Environmental Chemistry, Univ. of Szeged, Rerrich Bela ter 1., Szeged, H-6720, HUN) ,  OVARI L. ,  KISS J. ,  KONYA Z.
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 17  号： 7  ページ： 5124-5132  発行年： 2015年02月21日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低速イオン散乱分光法(LEIS)およびX線光電子分光法(XPS)を用いてCu(111)表面のCeおよびCeO₂の制御成長を検討した。他の金属基板を用いる金属および酸化形のセリウム析出物に関する既報のLEIS研究により希ガスイオンの中和が非常に困難であることが報告されている。このため本研究ではLEISデータの定量評価の大きな障害となるであろう中和について起り得るマトリックス効果(「中和効果」)を明らかにするために特に注意した。Cu(111)にO₂を吸着させるとHe⁺でもNe⁺でも中和効果は誘起されなかった。同様にCu(111)に金属Ceを析出させるとHe⁺では中和効果は特定されなかったが,Ne⁺を用いて観測したCeピークでそれが生じた。Ceの初期成長はΘ_Ce~0.5MLまで二次元であったがΘ_Ce=2MLでCu(111)のほとんど完全な被覆率が得られた。523Kの試料温度においてO₂背景でCeを蒸発させてCeO₂(111)を析出させた。He⁺でもNe⁺でも中和効果は観測されなかった。成長モードは文献データと矛盾なく三次元であった。本研究ではLEISによって効率的に検査することができるであろう膜の連続性が使用酸素圧力の影響を5×10^~7-3×10^-6mbarの範囲で受けることを示した。p_O=3×10^-6mbarにおいては比較的大きな被覆率(16ML)でも膜は完全には閉じず,銅原子のかなりの部分がCu¹⁺に酸化された。p_O=5×10^-7mbarにおけるCeO₂の析出はほぼ完全な濡れを特徴とし,界面には金属銅原子と若干還元されたセリア層とがあった。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *銅 ,  *セリウム ,  *酸化セリウム ,  *薄膜成長 ,  低速イオン散乱 ,  イオン散乱分光法 ,  表面分析 ,  X線光電子分光法 ,  マトリックス効果 ,  酸素 ,  被覆率
準シソーラス用語： 低速イオン散乱分光法

分類 (3件)： 金属の表面構造  (BK15020P) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： Cu ,  セリウム ,  二酸化セリウム ,  成長 ,  XPS