文献

J-GLOBAL ID：201502202319338081   整理番号：15A0962598

界面金属薄膜および貫通性X線による体内埋込デバイスにおける細菌成長の防止

Preventing bacterial growth on implanted device with an interfacial metallic film and penetrating X-rays

著者 (5件)： AN Jincui (Worcester Polytechnic Inst., Dep. of Biomedical Engineering, 01609, Worcester, MA, USA) ,  SUN An (Univ. of Central Florida, Dep. of Health Management and Informatics, 32816, Orlando, FL, USA) ,  QIAO Yong (Worcester Polytechnic Inst., Dep. of Biomedical Engineering, 01609, Worcester, MA, USA) ,  ZHANG Peipei (Worcester Polytechnic Inst., Dep. of Biomedical Engineering, 01609, Worcester, MA, USA) ,  SU Ming (Worcester Polytechnic Inst., Dep. of Biomedical Engineering, 01609, Worcester, MA, USA)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Medicine  (Journal of Materials Science. Materials in Medicine)
巻： 26  号： 2  ページ： 5374,1-6  発行年： 2015年02月 
JST資料番号： W0004A  ISSN： 0957-4530  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： デバイス関連感染は,長い間大きな問題であった。本論文では,微生物阻害のための放射線感受性膜としてデバイスに沈着された金属薄膜が用いられる組織貫通X線放射により体内埋込デバイスにおいて細菌成長を阻害する新しい方法について述べた。X線の投与線量において,金属薄膜(ビスマス)の厚みの増加とともに細菌の生存性は減少した。細菌生存性は,X線量増加とともに減少した。2.5GyのX線量において10nm厚みのビスマス薄膜において98%の細菌が殺され,むき出しのペトリ皿においては25%の細菌が殺された。ビスマス薄膜から短い距離(4mm)内にある8%の線維芽細胞を同じ線量のX線が殺した。貫通性X線は,体内埋込デバイスの表面に沈着されたビスマス薄膜において細菌を効率的に殺すことができることをこれらの結果が示唆した。Copyright 2015 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 界面 ,  *金属薄膜 ,  *X線 ,  *生体埋込 ,  *医療機器 ,  *細菌 ,  細菌感染 ,  放射線 ,  沈着 ,  放射 ,  放射線量 ,  ビスマス ,  厚み ,  実験用器具 ,  線維芽細胞
準シソーラス用語： X線放射 ,  ペトリ皿 ,  線量

分類 (4件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  X線技術  (BA02060D) ,  医療用機器装置  (GA05020L) ,  抗細菌薬の基礎研究  (GW17020S)

タイトルに関連する用語 (6件)： 界面 ,  金属薄膜 ,  X線 ,  埋込 ,  細菌 ,  成長