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J-GLOBAL ID：201502202486129079   整理番号：15A0900036

イメージング分光測光法による薄膜の分散モデルパラメータと局所厚さの同時決定

Simultaneous determination of dispersion model parameters and local thickness of thin films by imaging spectrophotometry

著者 (8件)： NECAS David (RG Plasma Technologies, CEITEC - Central European Inst. of Technol., Masaryk Univ., Kamenice 5, Brno 62500, CZE) ,  NECAS David (Dep. of Physical Electronics, Fac. of Sci., Masaryk Univ., Kotlarska 2, Brno 61137, CZE) ,  VODAK Jiri (Inst. of Physical Engineering, Fac. of Mechanical Engineering, Brno Univ. of Technol., Technicka 2896/2, Brno 61669, CZE) ,  OHLIDAL Ivan (Dep. of Physical Electronics, Fac. of Sci., Masaryk Univ., Kotlarska 2, Brno 61137, CZE) ,  OHLIDAL Miloslav (Inst. of Physical Engineering, Fac. of Mechanical Engineering, Brno Univ. of Technol., Technicka 2896/2, Brno 61669, CZE) ,  MAJUMDAR Abhijit (Inst. of Physics, Univ. of Greifswald, Felix-Hausdorff-Strasse 6, Greifswald 17487, DEU) ,  ZAJICKOVA Lenka (RG Plasma Technologies, CEITEC - Central European Inst. of Technol., Masaryk Univ., Kamenice 5, Brno 62500, CZE) ,  ZAJICKOVA Lenka (Dep. of Physical Electronics, Fac. of Sci., Masaryk Univ., Kotlarska 2, Brno 61137, CZE)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 350  ページ： 149-155  発行年： 2015年09月30日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イメージング分光反射測定による厚さ不均一な薄膜測定を分析するための最小二乗データあてはめ手順を開発した。これは,全画像画素における膜厚の分配された分散モデルパラメータとの同時最小二乗あてはめの問題を解く。相互に相関するあてはめパラメータの数が巨大で,標準Levenberg-Marquardtアルゴリズムを直接適用できないため,ここで提案した手順は特有の最小二乗問題の特別構造を採用する。自由パラメータを,厚さ及び分散モデルパラメータに分割した。両パラメータ群を,修正なしLevenberg-Marquardtアルゴリズムを利用して,交替に当て嵌め,実効光学厚さを保持するため分散モデル当て嵌めステップ間に厚さを修正した。アルゴリズムの挙動を,2つの材料,すなわちSiO_xC_yH_z及びCN_x:Hの高度に不均一薄膜実験データを用い,及び人工データを用いた数値的シミュレーションにより,調べた。光学厚さ補正が手順を迅速に収斂させることを可能にし,巨大なイメージング分光反射測定データセットの,合理的計算資源による解析を,許容することを見出した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *分光測光 ,  *画像処理 ,  *反射率 ,  *データ解析 ,  *最小二乗推定 ,  *数値解法 ,  膜厚 ,  不均一性 ,  *光学定数 ,  データ処理 ,  反射スペクトル ,  *光学的厚さ
準シソーラス用語： *Levenberg-Marquardtアルゴリズム

分類 (2件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  薄膜一般  (BK14010X)

タイトルに関連する用語 (6件)： イメージング ,  分光測光法 ,  薄膜 ,  分散モデル ,  パラメータ ,  厚さ