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J-GLOBAL ID：201502203369599800   整理番号：15A1179996

多重パルスプラズマシースの動的挙動に及ぼす圧力の影響【Powered by NICT】

Influence of Pressure on Dynamic Behavior of Multiple Pulses Plasma Sheath

著者 (4件)： Li Yi (School of Sci.,Liaoning Univ. of Technol., Jinzhou) ,  Jing Xiaodan (School of Sci.,Liaoning Univ. of Technol., Jinzhou) ,  Li Jiuhui (School of Sci.,Liaoning Univ. of Technol., Jinzhou) ,  Lei Mingkai (Surface Engineering Lab.,School of Materials science and Engineering,Dalian Univ. of Technol., Dalian)
資料名： Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao  (Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao)
巻： 35  号： 5  ページ： 589-593  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2159A  ISSN： 1672-7126  CODEN： CKKSDV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ,プラズマ浸漬イオン注入(PIII)による薄膜成長の連続パルスにより発生した,ターゲット表面に近いプラズマシースの動的挙動に及ぼす圧力の影響は経験的に近似し,数学的に低圧非定常拡散流体と衝突流体理論とモデル化し,解析的に計算し,数値的にシミュレートした。結果は圧力が注入イオンの電流とエネルギーに顕著に影響することを示した;とする定常プラズマシースは,ほんのいくつかの初期パルス後に形成され,恐らく高電流とエネルギーのためにした。減圧は初期プラズマ密度,電流と注入イオンのエネルギーを増加させた。例えば,0.5~0.02Paの圧力減少は定常プラズマ密度を5.08×10~(12)-1.03×10~(14)m~(-3),0.08~0.51A/m~(-2)からの平均電流密度,及び平均エネルギーから0.3×10~3から5.4×10~3eVの範囲であった。最低許容圧力は,PIIIによる膜成長条件を最適化するかもしれないことを示唆した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： イオン ,  薄膜成長 ,  電流密度 ,  多重化 ,  電流 ,  *パルス ,  減圧 ,  *プラズマさや ,  最適化 ,  モデリング ,  プラズマ密度 ,  低圧 ,  忍容性
準シソーラス用語： 許容性 ,  非定常性 ,  *動的挙動 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 多重 ,  パルスプラズマ ,  シース ,  動的挙動