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J-GLOBAL ID：201502203418898396   整理番号：15A0674206

PolySCHOLA つくる3限目 高強度ゲルをつくる

著者 (1件)： 中島祐 (北大 大学院先端生命科学研究院)
資料名： 高分子  (Polymers)
巻： 64  号： 6  ページ： 367-369  発行年： 2015年06月01日 
JST資料番号： F0168A  ISSN： 0454-1138  CODEN： KOBUA3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリアクリルアミド系,ポリスチレンスルホン酸系のヒドロゲルの合成の実験的手法を解説した。アクリルアミド(単量体),N,N′-メチレンビスアクリルアミド(架橋剤),2-オキソグルタルタル酸(光開始剤)からなる水溶液を2枚のガラス板の間に封入後,光(365nm)照射によるヒドロゲルの合成法を説明した。同様に2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸(単量体)とアクリルアミド(単量体)を,時間差による二段階で重合した二重ネットワーク構造のヒドロゲルの合成法も説明した。さらに,アニオン性単量体;p-スチレンスルホン酸ナトリウム,カチオン性単量体;2-(アクリロイルオキシ)エチルトリメチルアンモニウムクロリド,架橋剤;N,N′-メチレンビスアクリルアミド,光開始剤;2-オキソグルタルタル酸,塩化ナトリウムから水溶液から両性イオンのヒドロゲルを合成した。この両性イオンのヒドロゲルに純水を添加し,塩化ナトリウムを排出させ膨潤度が変化する現象が,イオン結合性と相関することを解説した。

シソーラス用語： *ヒドロゲル ,  *高分子電解質 ,  ポリイソプロピルアクリルアミド ,  吸水性高分子 ,  水溶性高分子 ,  ポリスチレンスルホン酸 ,  熱応答 ,  温度感受性 ,  生体適合性高分子 ,  高分子溶液 ,  高分子反応 ,  ポリアクリルアミド ,  イオノマ ,  光開始剤 ,  紫外線照射 ,  ネットワーク構造 ,  双性イオン ,  膨潤 ,  イオン結合 ,  両性電解質 ,  脂肪族ケトン ,  脂肪族カルボン酸 ,  ケト酸 ,  ジカルボン酸 ,  カルボアミド ,  ビニル化合物 ,  不飽和カルボン酸

分類 (3件)： 高分子溶液の物理的性質  (CG02013S) ,  高分子溶液の物性一般  (CG02011K) ,  高分子と低分子との反応  (CG03020L)

物質索引 (7件)： 2-(ジメチルアミノ)エチルアクリラート ,  2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸 ,  2-オキソグルタル酸 ,  N,N′-メチレンビスアクリルアミド ,  p-スチレンスルホン酸 ,  p-スチレンスルホン酸ナトリウム ,  アクリルアミド

引用文献 (4件)：

• たとえば,"高分子の合成(上)",遠藤剛(編),講談社(2010)
• J. P. Gong, Y. Katsuyama, T. Kurokawa, and Y. Osada, Adv. Mater, 15,1155(2003)
• たとえば,中島祐,田中良巳,古川英光,黒川孝幸,龔剣萍,高分子論文集,65,707(2008)
• T. L. Sun, T. Kurokawa, S. Kuroda, A. B. Ihsan, T. Akasaki, K. Sato, M. A. Haque, T. Nakajima, and J. P. Gong, Nat. Mater., 12, 932(2013)

タイトルに関連する用語 (2件)： 高強度 ,  ゲル